光刻投影物镜恒温水套小比例模型的设计与性能测试

发布时间：2017-11-19 23:13

  本文关键词：光刻投影物镜恒温水套小比例模型的设计与性能测试

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【摘要】：恒温水套是光刻物镜工作环境温度控制系统的重要组成部分。为了研究恒温水套的关键参数与性能,设计了一个小比例水套模型。恒温温控系统对其提供±0.001℃的去离子水,通过对比三镜光机系统温度变化及热像差变化获取小比例水套的关键参数。实验数据表明,在加入热扰动且环境温度为22.06~22.16℃的情况下,三镜光机系统的内壁温度被控制在(22±0.01)℃以内,波像差在热扰动后迅速恢复至10.12nm,与装调完毕状态基本一致。由此可见,此种水套结构可以满足光刻投影物镜的温度控制要求,可在此基础上设计等比例恒温水套模型。
【作者单位】： 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室超精密光学工程中心;空军航空大学航空理论系;
【基金】：国家重大专项基金(2009ZX02205)
【分类号】：TN305.7
【正文快照】： 近年来,超大规模集成电路生产线在我国国民生产中发挥着愈发重要的作用。光刻投影物镜作为集成电路生产线的核心部件,对工作环境的要求极高,温度、气压、洁净度、噪声、振动等参数都需要控制在一个极小的波动范围内[1-4]。其中,温度控制是光刻系统工作环境控制的难点之一[5-8]

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本文编号：1205237