光斑重叠率对飞秒激光硅材料表面着色的影响

发布时间：2017-11-20 13:09

  本文关键词：光斑重叠率对飞秒激光硅材料表面着色的影响

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【摘要】：研究了光斑重叠率对飞秒激光硅材料表面着色的影响。实验结果表明:飞秒激光在硅材料表面着色是由于在其表面诱导出了周期纳米条纹结构;在飞秒激光功率一定的情况下,较高和较低的光斑重叠率都不能实现着色;在选定激光功率范围内,光斑重叠率越大,呈现的颜色越丰富,着色效率越高。另外反射率的测量结果表明着色后样品在可见光范围内反射率下降了50%左右。得到了飞秒激光硅材料表面着色的参数窗口,为飞秒激光半导体着色的推广提供了技术参考。
【作者单位】： 中国科学院上海光学精密机械研究所强场激光物理国家重点实验室;中国科学院大学;
【基金】：国家自然科学基金(11374316)
【分类号】：TN304.12;TN24
【正文快照】： 1引言硅材料广泛应用在集成电路[1]、探测器[2]、传感器[3]、微机电系统[4]和太阳能电池[5-6]等领域。对硅材料表面进行着色不仅可以提高探测器效率[7],扩宽传感器光谱响应范围[8],还可以装饰硅材料器件外观[9]。例如,在实现光伏建筑一体化时,需要将太阳能电池直接建造在建筑

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本文编号：1207241