接触接近式光刻机微力找平技术

发布时间：2017-11-24 03:25

  本文关键词：接触接近式光刻机微力找平技术

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【摘要】：介绍了一种微力找平技术,该技术应用气缸及间隙找平机构,可满足厚胶光刻工艺要求。
【作者单位】： 中国电子科技集团公司第四十五研究所;
【分类号】：TN305.7
【正文快照】： 接触接近式光刻设备是半导体生产及实验制造中的关键设备之一。近年来随着厚胶工艺的应用日益广泛及对掩模版防损要求的提高,对光刻机的找平技术也提出了新的要求,即要求基片与掩模版找平时找平力尽量小且方便调整找平力的大小,并在找平过程中减少对掩模版的损伤,延长掩模版的

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