一种新型双重图形技术拆分方法

发布时间：2017-11-29 20:31

  本文关键词：一种新型双重图形技术拆分方法

  更多相关文章： 光刻 双重图形技术(DPT) 图形拆分 光学临近效应修正(OPC) 奇数周期

【摘要】：基于奇数周期理论,提出一种新型快速高效率的双重图形技术(DPT)拆分方法。对于图形拆分过程中遇到的剩余违规冲突问题,分析其存在的原因,阐述了已知解决途径;基于奇数周期理论,详细阐述了新型图形拆分方法的实现步骤,该方法主要适用于未在设计阶段考虑兼容DPT的设计版图,能够对版图顺利完成包含更改设计和引入切割的图形拆分过程;采用新方法拆分实际版图,进一步证明了该方法能够同时减少剩余冲突和引入切割数目;采用EDA工具模拟了拆分之后进行光源掩膜优化(SMO)和光学临近效应修正(OPC)的光刻分辨率增强流程,验证了DPT能够提高分辨率、增大光刻工艺窗口。
【作者单位】： 中国科学院微电子研究所微电子器件与集成技术重点实验室;
【基金】：中国科学院微电子器件与集成技术重点实验室课题基金资助项目 国家科技重大专项资助项目(2013ZX02303) 国家自然科学基金青年科学基金资助项目(61504161)
【分类号】：TN405
【正文快照】： 0引言随着电路集成度的提高和规模的增大,电路中的单元器件尺寸不断缩小,对集成电路制造工艺的要求不断提高,特征线宽持续减小,芯片制造对光刻分辨率要求越来越高。对于28 nm节点以下的设计,采用193 nm浸没式单次曝光技术已经无法满足工艺因子k1=0.25的分辨率要求。而极紫外(E

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本文编号：1238054