纳米聚集氧化硅固定磨料抛光布的抛光特性

发布时间：2017-12-14 12:03

  本文关键词：纳米聚集氧化硅固定磨料抛光布的抛光特性

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【摘要】：针对传统磨料的固定磨料抛光布容易在加工表面产生划伤,以及材料去除效率低等问题,提出了采用微米级球形聚集氧化硅粒子的固定磨料抛光布。将纳米聚集氧化硅粒子添加到抛光布中,用pH为10.5的碱性水溶液替代传统的抛光液,进行了Si基板的的抛光加工试验。与传统采用不规则形状天然氧化硅及球形熔融氧化硅固定磨料抛光布进行了比较,得到了纳米聚集氧化硅的固定磨料抛光布的加工特性,并讨论了它的基本参数对加工特性的影响。实验得到了与现行纳米抛光液(重量百分比为3%,pH=10.5)相同的材料去除率,加工表面粗糙度降低了约30%。与传统不规则形状天然氧化硅磨料抛光布相比,纳米聚集氧化硅抛光布的磨料为球形,弹性系数仅为其1.4%~60%,因此不易划伤抛光表面。与熔融氧化硅抛光布相比,纳米聚集氧化硅抛光布在pH为10.5的碱性水溶液中磨料表面可吸附的[-OH]离子提高了25倍,使得液相化学去除作用增大至去除率的70%以上。另外,随着纳米聚集氧化硅的微米粒径的增大,固定磨料抛光布的纳米级加工表面粗糙度几乎不变,但对前加工面表面粗糙度的去除能力明显增大,表现出微米粒径效应。
【作者单位】： 天津职业大学机电工程学院;
【基金】：天津市自然科学基金资助项目(No.13JCYBJC18100) 天津职业大学培育资助项目(No.20101101)
【分类号】：TN305
【正文快照】： 1引言固定磨料抛光布的硬度通常高于传统的不含磨料抛光布,在半导体的CMP工程中能改善氧化凹陷;此外由于其基材具有黏弹性,比其它固定磨料抛光工具(如砂轮)更容易实现无损伤镜面抛光加工[1-4]。3M公司的Gagliardi[5]为了使磨屑和脱落的磨料顺利排出,将固定磨料制成微米级的凸，

本文编号：1287805