一种高效的锗单晶抛光片清洗液

发布时间：2017-12-30 07:36

  本文关键词：一种高效的锗单晶抛光片清洗液　出处：《半导体技术》2016年02期 　论文类型：期刊论文

  更多相关文章： 锗(Ge)单晶 表面清洗 表面粗糙度 雾值 抛光片

【摘要】：以锗(Ge)单晶片为衬底制备的太阳电池,具有较好的光电转换效率,因而使Ge材料再次受到广泛关注。Ge单晶片表面的均匀性对外延结果有着较大影响,基于改善Ge单晶片表面均匀性的目的,引入一种H2O2,HF和去离子水的混合液作为Ge片的清洗液,以雾值、表面粗糙度和表面颗粒度作为Ge单晶片表面均匀性的评价指标。通过Ge单晶片清洗实验,确定清洗液配比、清洗时间的较优组合。在优化后的清洗条件下,Ge单晶抛光片的雾值为2.33×10-8,表面粗糙度为0.16 nm,Ge单晶片的表面质量满足电池制作的要求。该清洗液清洗效果好,操作简便,是Ge单晶抛光片的一种较理想清洗液。
[Abstract]:......
【作者单位】： 中国电子科技集团公司第四十六研究所;
【分类号】：TN305.2
【正文快照】： 0引言随着科学技术的发展,以Ge单晶材料为衬底制备的多结太阳电池受到广泛关注,从而使Ge单晶材料在地面光伏发电系统、航天器供电电源中呈现出井喷式应用,成为该领域主流太阳电池衬底材料[1-4]。在电池制备过程中,需要采用金属有机物化学气相沉积(MOCVD)或分子束外延(MBE)技术

【参考文献】

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【共引文献】

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【二级参考文献】

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7 ;行业信息[A];2004年仪表材料论坛论文集[C];2004年

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