基于矩阵积分法优化光刻部分相干成像模型
本文关键词：基于矩阵积分法优化光刻部分相干成像模型 出处：《贵州师范学院学报》2016年09期 论文类型：期刊论文
【摘要】：基于矩阵积分法实现了Matlab对光刻部分相干二维成像的模拟,验证了Matlab编写的部分相干程序的可行性,加入了离焦对光刻分辨率的影响。通过建立部分相干光光刻仿真模型,并在二极照明方式下,对离焦对光刻成像的影响进行了模拟计算。结果表明,矩阵积分法降低了程序运算所用时间,微小的离焦对光刻部分相干成像影响巨大,必须考虑离焦对光刻分辨率造成的影响。
[Abstract]:Matrix integral method to achieve the simulation of Matlab lithography based on partially coherent two-dimensional imaging, to verify the feasibility of Matlab prepared by the partially coherent program, joined the influence of defocus on lithography resolution. Through the establishment of a partially coherent optical lithography simulation model, and the dipole illumination, the effect of defocusing on lithography is simulated the calculation. The results show that the matrix integral method reduces the computation time, tiny defocusing on partial coherent imaging lithography has great influence, must consider the influence of defocus on the resolution caused.
【作者单位】： 贵州师范学院;贵州大学;
【基金】：贵州省教育厅自然科学基金招标项目(黔教合KY字【2012】051号) 贵州省科技厅自然科学基金项目(黔科合J字【2013】2253号;黔科合SY字【2014】3084号) 贵州师范学院校级学生科研项目(2014DXS114)
【分类号】：TN305.7
【正文快照】： 引言光刻模拟开始于1970年代早期,当时,RickDill在IBM的Yorktown Heights Research Center用数学公式描述了光刻工艺的一些基本步骤[1]。Dill首先建立一个最简单的模型。在一维情况下给定一个硅片上未曝光的光刻胶模型,然后研究曝光时随着在光刻胶中曝光深度变化光强的分布。D
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，本文编号：1383039
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