GLSI铜布线碱性抛光液中磨料的稳定性
本文选题:化学机械抛光(CMP) 切入点:硅溶胶 出处:《微纳电子技术》2017年02期
【摘要】:在铜化学机械抛光中硅溶胶作为磨料起到重要的机械作用。但硅溶胶本身存在热力学上的不稳定性和动力学上的稳定性。研究了pH值、甘氨酸质量分数以及硅溶胶质量分数对抛光液中硅溶胶的粒径和Zeta电位的影响。结果表明,硅溶胶稳定性影响主要表现在pH为10.5时,体系具有最大的Zeta电位。甘氨酸质量分数在小于2%和硅溶胶质量分数小于5%时,有利于胶体的稳定性。利用DLVO理论和空位稳定理论对实验现象进行分析,研究了硅溶胶稳定机理。根据稳定性结论,优化抛光液组分,得到抛光速率稳定的碱性铜布线抛光液,稳定时间超过14天。
[Abstract]:In copper chemical mechanical polishing, silica sol plays an important mechanical role as abrasive, but the silica sol itself has thermodynamic instability and kinetic stability. The effects of glycine content and silica sol mass fraction on the particle size and Zeta potential of silica sol in polishing solution were studied. The results showed that the stability of silica sol was mainly affected by pH 10. 5. The system has the largest Zeta potential. When the mass fraction of glycine is less than 2% and the mass fraction of silica sol is less than 5, the stability of colloid is favorable. The experimental phenomena are analyzed by DLVO theory and vacancy stability theory. The stabilization mechanism of silica sol was studied. According to the stability conclusion, the polishing liquid composition was optimized, and the alkaline copper wiring polishing solution with stable polishing rate was obtained, and the stabilization time was more than 14 days.
【作者单位】: 河北工业大学电子信息工程学院;天津市电子材料与器件重点实验室;
【基金】:国家中长期科技发展规划重大专项资助项目(2009ZX02308) 天津市自然科学基金资助项目(16JCYBJC16100) 河北省自然科学基金资助项目(E2013202247)
【分类号】:TN305.2
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,本文编号:1689026
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