LTPS工艺中光刻胶与膜层粘附力的研究

发布时间：2018-06-30 10:31

  本文选题：粘附力 + 光刻胶　； 参考：《液晶与显示》2017年03期

【摘要】：本文对影响LTPS工艺中光刻胶和衬底间粘附力的4个因素进行了实验及理论分析。经实验发现:衬底的材质和粗糙度以及光刻胶中分子量的分布是影响光刻胶和衬底粘附力的最重要的两个因素。在改善粘附力方面HMDS对于电负性较强的金属衬底和光刻胶的粘附力有较好的改善效果,对于SiNX、A-Si及P-Si衬底改善效果明显,且无差异,对于ITO没有改善。光刻胶涂布后适当延长烘烤时间也可以有效改善光刻胶和衬底的粘附力。
[Abstract]:In this paper, four factors affecting the adhesion between photoresist and substrate in LTPS process are studied. It is found that the material and roughness of the substrate and the molecular weight distribution in the photoresist are the two most important factors affecting the adhesion between the photoresist and the substrate. In the aspect of improving adhesion force, HMDS has a better effect on the adhesion of metal substrate and photoresist with strong electronegativity, but it has no difference on SiNX A-Si and P-Si substrates, but no improvement on ITO. The adhesive force of photoresist and substrate can be improved by prolonging baking time after photoresist coating.
【作者单位】： 鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司;京东方科技集团股份有限责任公司;
【分类号】：TN305.7

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本文编号：2085979