用于短波红外探测器的微透镜阵列制作
[Abstract]:Microlenses with special size are fabricated by photolithographic hot melt method. The microlens array technology can be applied to 1 渭 m ~ (3 渭 m) short wave infrared detector, which can effectively improve the photoelectric performance of the detector. By using AZ P4620 thick photoresist and UV lithography technology, the pre-drying, exposure and development, hard film and hot melt process of lens fabrication were studied in detail, and the optimum technological parameters were determined. A microlens with a spherical crown diameter of (5.5 卤0.5) 渭 m and a curvature radius of 3 渭 m has been realized. The lens has good uniformity and consistency, and meets the requirements of near-infrared detector.
【作者单位】: 北京工业大学信息学部光电子技术省部共建教育部重点实验室;
【基金】:2017年光电子技术教育部重点实验室基金(PXM2017_014204_500034)的经费支持
【分类号】:TN215
【参考文献】
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【共引文献】
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,本文编号:2211042
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