梯度铝镓氮缓冲层对氮化镓外延层性质的影响
[Abstract]:Aluminum nitride buffer layer was grown on (0001) surface of silicon carbide substrate by metal organic chemical vapor deposition system. The growth temperature and ammonia flow rate of the buffer layer were changed by changing the Al_xGa_ _ (1-x) N _ (x) O _ (0.8) N _ (0.5) N _ (1-x) N _ (0.5) N buffer layer. High quality gallium nitride epitaxial layer was prepared. The epitaxial layers of gallium nitride were characterized by X-ray diffraction, atomic force microscopy, photoluminescence and Raman spectroscopy respectively. The experimental results show that the crystal quality, surface morphology and optical quality of the samples are improved significantly with the decrease of tensile stress in the epitaxial layer of gallium nitride. Under the optimal growth conditions of the gradient aluminum-gallium nitrogen buffer layer, the stress value of the gallium nitride epitaxial layer is the smallest. The half-width of the rocking curve of gallium nitride (0002) and (1012) is 191 arcsec and 243 arcsec, respectively. The density of screw dislocation and edge dislocation are 7 脳 10 ~ (-2) and 3.1 脳 10 ~ (-8) cm ~ (-2), respectively. The surface roughness of the sample is 0.381 nm.. The results show that the gradient aluminum-gallium nitrogen buffer layer can change the stress state of the gallium nitride epitaxial layer and improve the crystal quality of the gan epitaxial layer.
【作者单位】: 集成光电子国家重点联合实验室吉林大学电子科学与工程学院;
【基金】:国家自然科学基金(61274023,61106003,61376046,61674068) 国家重点研发计划(2016YFB0400103) 吉林省科技发展计划(20130204032GX,20150519004JH,20160101309JC) 教育部新世纪人才计划(NCET13-0254)资助项目~~
【分类号】:TN304
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本文编号:2273090
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