基于自由曲面方法的极紫外收集系统设计

发布时间：2019-09-17 08:03

【摘要】：集光系统是极紫外光刻机的重要组成部分。集光系统主要包括收集系统和照明系统,传统的极紫外光刻机主要采用的Wolter I型的收集系统,由于这种收集系统在中间像点处收集的光是非均匀的,因此照明系统则必须采用特殊的复眼式科勒照明方式,这是一种光学积分器形式,这种光学积分器是由多个微小的反射镜组成的,制造工序复杂,成本也非常高。为了大批量生产,减小成本,本文将基于自由曲面的方法设计一种新型的收集系统。首先讨论了近几年的极紫外光刻机及其收集系统的发展情况;然后以极紫外理论知识和非成像的知识为基础,探讨了这种新型的自由曲面收集系统的设计方法,并根据收集系统的参数设计出满足要求的自由曲面;在构造自由曲面的过程中,首先在matlab中通过求解计算得到自由曲面的截面的离散点,并在Solid Works中得到收集系统3D模型;最后通过Tracepro软件仿真模拟验证所设计的收集系统,通过对照面能量和均匀度的分析,证明这种自由曲面的收集系统的可行性与正确性。为了方便数控机床加工,就需要得到相应的面型公式,于是对所得到的离散点进行高次幂线性拟合,最终得到最高次为7次的高次幂多项式的仿真结构符合设计要求。
【图文】：

图 1-1 第一台光刻机 G-Line将主要介绍的极紫外光刻机(EUVL)，它是以波长为 13.5nm 的曝光光源的微电子光刻技术[6]，适用于特征尺寸为 22nm 及更细电路的生产，是业界认为是最有希望的下一代光刻技术。从 20期开始，欧美及日本等一些国家和地区的公司， 大学和实验

图 1-2 由 6 个掠入射镜片组成的收集系统的切面图国内在极紫外光刻机的发展上还处于初级阶段，我国科技人员曾多次向家建议开发研究极紫外光刻技术及其相关的光学技术，，但至今，我国还没从整体上进行大规模极紫外光刻的研究，但国家自然基金委开展了一些相技术的研究。近年来，长春光机所在投影光学系统以及离轴照明系统等方
【学位授予单位】：哈尔滨工业大学
【学位级别】：硕士
【学位授予年份】：2015
【分类号】：TN305.7

【参考文献】

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1 陈文枢;光刻机掩模台系统的动力学分析[D];华中科技大学;2007年

本文编号：2536739