基于电流模技术的双逻辑映射方法研究
【图文】:
宁波大学硕士学位论文- 11 -图2.3 单轨电流模基本组合逻辑电路图Fig. 2.3 The Monolithic current mode basic combination logic circuit diagram2.3 电流模逻辑电路设计约束设定及整体优化前面对两种主要类型的电流模电路结构和性能进行了大致介绍,说明了 2 种逻辑电路各自特点,为此,下文我们将要作重点介绍关于如何对电流模电路做性能的优化处理,满足低功耗的需求。为了达到性能优化,需要对以下几个方面进行优化: 单元面积、增益、对fnV 和fpV 电压控制及功耗、延时等。由于电流模逻辑单元的版图是以不规则形态存在的,故要想对其精确估计是非常困难的,只有通过在前期制作示意图阶段就对其晶体管的长宽进行约束,对其尺寸做最大限度的优化,,得到尽可能小的尺寸单元。在满足上述要求的同时也要考虑电路大驱动的需求,这使得在布线面积和尺寸比例都要考虑到,故对单元面积准确评估至关重要。电流模电路的增益通常比一般的 CMOS 电路要小
基于电流模技术的双逻辑映射方法研究- 26 -图4.4 设计流程Fig. 4.4 The design flow4.2 时序库时序库也称综合库,主要作用是描述其中每个单元时序信息库文件,规定了各个单元在不同输入条件下各个输入端口至输出端口信号的延时情况,通过模拟不同工艺的工作状态下,电路所得到的相对应的时序数据,最后通过把这些数据转换成 DC 综合工具可读取识别的文件。它是相当于一个信息查询表的形式,它的所描述的为库属性、环境属性、标准单元属性,其中具体包含标准单元中面积、功耗、时序等等相关信息来作为 DC 综合工具的库文件,通过 Liberty NCX 把已经做好的版图信息作为特征化的条件,特征化后输出的文件是以*.db 为后缀的
【学位授予单位】:宁波大学
【学位级别】:硕士
【学位授予年份】:2018
【分类号】:TN405
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本文编号:2610886
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