六种并五噻吩同分异构体的制备及其有机场效应晶体管的性能研究
发布时间:2020-05-04 10:38
【摘要】:稠合噻吩类化合物作为一类新型的有机半导体材料,受到人们广泛的关注。其中并五噻吩是由五个噻吩环稠合在一起,S原子的聚集程度非常高,容易形成多种分子间作用力,且具有很好的稳定性和平面性。本论文以三种并三噻吩为构筑模块,合成了六种新的并五噻吩同分异构体,并对部分目标化合物的OFETs性能进行了初步表征。论文主要分为以下几个部分:1)以二噻吩并[3,2-b:2',3'-d]噻吩(tt-DTT)为构筑模块,与单噻吩硼酸酯经Suzuki偶联得到三种偶联(α-β偶联、β-β偶联、β-α偶联)产物。这三种偶联产物分别通过不同的硫代试剂(Ph(SO_2)_2S、(SnBu_3)_2S)关环,得到中间体TMS-PTA-1(7)、TMS-PTA-2(11)、TMS-PTA-3(15),其中使用(SnBu_3)_2S关环的产率相对(PhSO_2)_2S较高。这三种中间体在三氟乙酸的作用下,最终以18%、26%、12%的总产率分别得到PTA-1、PTA-2、PTA-3。所有中间体都经过~1H NMR、~(13)C NMR、HRMS和IR的鉴定,目标化合物PTA-1、PTA-2、PTA-3的结构经HRMS、IR和元素分析的鉴定。对目标化合物PTA-1进行真空梯度升华,并利用真空气相沉积的方式制备薄膜,通过加工有机场效应晶体管对场效应性能进行初步表征,其迁移率为2.26×10~(-2) cm~2 V~-11 s~(-1),开关电流比为10~4。2)以二噻吩并[2,3-b:3',2'-d]噻吩(bb-DTT)为构筑模块,分别通过NBS溴代、Suzuki偶联,C_2Br_2Cl_4溴代,(SnBu_3)_2S关环得到重要中间体TMS-PTA-4(23),最后在三氟乙酸作用下脱去TMS基团,以35%的总产率得到PTA-4。所有中间体都经过~1H NMR、~(13)C NMR、HRMS和IR的鉴定,目标化合物PTA-4的结构经过HRMS、IR和元素分析的鉴定。对目标化合物PTA-4进行真空梯度升华,并利用真空气相沉积的方式制备薄膜,通过加工有机场效应晶体管对场效应性能进行初步表征,其迁移率为5.51×10~(-2) cm~2 V~-11 s~(-1),开关电流比为10~5。3)以二噻吩并[3,2-b:2',3'-d]噻吩(bt-DTT)为构筑模块,利用其两侧α位活性不同,在其两侧分别进行溴代,溴迁移,Suzuki偶联,偶联产物分别通过不同的硫代试剂(Ph(SO_2)_2S、(SnBu_3)_2S)关环,得到中间体TMS-PTA-5(32)、TMS-PTA-6(40),其中使用(SnBu_3)_2S关环的产率都会比(PhSO_2)_2S高。这两种中间体在三氟乙酸作用下脱去TMS保护基团,最终以25%、20%的总产率分别得到PTA-5、PTA-6。所有中间体都经过~1H NMR、~(13)C NMR、HRMS和IR的鉴定,目标化合物PTA-5、PTA-6的结构都经过HRMS、IR和元素分析的鉴定。
【图文】:
07(electron)97(hole)PNBDOPN-DNBT - 为单晶器件;(v) 真空沉积法; (s)溶液加工法; (p) 喷墨打印法电流比 Ion/Ioff值是在不同栅压范围内测得的,,因此相互之间没有可对比.2 有机场效应晶体管的基本结构及性能参数FETs 的基本结构场效应晶体管由基底、栅极、绝缘层、有机半导体层、源漏电极极位置不同,它可分为底栅结构和顶栅结构,直接与基底连接的为顶栅结构。根据电极与绝缘层的位置不同,可分为顶接触和底与绝缘层挨着的为底接触,反之为顶接触。总的来说,可以分为顶接触、顶栅底接触、底栅顶接触、底栅底接触,如图 1-1 所示结构是底栅顶接触构型。
图 1-28 四个化合物分子间相互作用和场效应性能个化合物,随着分子结构的变化,它们分子间作用力从 S-S 相互作用、S-π 相互作用、S-π 相互作用和 S-S 相互作用共存,变化,从没有场效应性能变为 0.52 cm2V-1s-1、2.2 cm2V-1s-1、0.我们发现:1)随着取代基的变化,分子间作用力呈现规律性的用力为载流子的传输提供另外一个通道。bt-DTT 及其衍生物的有机半导体材料是合成还是 OFETs 的应用,tt-DTT 和 bb-DTT 报道的已经很报道的却很少。有关 bt-DTT 的合成,最早报道的是在 1971 年化合物 46 为原料,经过 NBS 溴代,n-BuLi 夺溴加入硫粉,生u2O 氧化得到 bt-DTT。
【学位授予单位】:河南大学
【学位级别】:硕士
【学位授予年份】:2018
【分类号】:TN386;O626.12
本文编号:2648415
【图文】:
07(electron)97(hole)PNBDOPN-DNBT - 为单晶器件;(v) 真空沉积法; (s)溶液加工法; (p) 喷墨打印法电流比 Ion/Ioff值是在不同栅压范围内测得的,,因此相互之间没有可对比.2 有机场效应晶体管的基本结构及性能参数FETs 的基本结构场效应晶体管由基底、栅极、绝缘层、有机半导体层、源漏电极极位置不同,它可分为底栅结构和顶栅结构,直接与基底连接的为顶栅结构。根据电极与绝缘层的位置不同,可分为顶接触和底与绝缘层挨着的为底接触,反之为顶接触。总的来说,可以分为顶接触、顶栅底接触、底栅顶接触、底栅底接触,如图 1-1 所示结构是底栅顶接触构型。
图 1-28 四个化合物分子间相互作用和场效应性能个化合物,随着分子结构的变化,它们分子间作用力从 S-S 相互作用、S-π 相互作用、S-π 相互作用和 S-S 相互作用共存,变化,从没有场效应性能变为 0.52 cm2V-1s-1、2.2 cm2V-1s-1、0.我们发现:1)随着取代基的变化,分子间作用力呈现规律性的用力为载流子的传输提供另外一个通道。bt-DTT 及其衍生物的有机半导体材料是合成还是 OFETs 的应用,tt-DTT 和 bb-DTT 报道的已经很报道的却很少。有关 bt-DTT 的合成,最早报道的是在 1971 年化合物 46 为原料,经过 NBS 溴代,n-BuLi 夺溴加入硫粉,生u2O 氧化得到 bt-DTT。
【学位授予单位】:河南大学
【学位级别】:硕士
【学位授予年份】:2018
【分类号】:TN386;O626.12
【参考文献】
相关硕士学位论文 前2条
1 高秀秀;联噻吩双负离子化策略应用于新结构环八四噻吩的合成及新结构噻吩[7]螺烯的合成尝试[D];河南大学;2017年
2 韩辉;二噻吩并芳杂环化合物及五元噻吩螺烯的合成研究[D];河南大学;2013年
本文编号:2648415
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