碳化硅槽栅MOSFET器件设计及其特性研究
【学位单位】:电子科技大学
【学位级别】:硕士
【学位年份】:2018
【中图分类】:TN386
【部分图文】:
也是 IV 族元素里边存在的唯一的固态碳化物,图 1-1(a)为 Acheson 工艺[1]最早得到的 SiC 块,图1-1(b)为商业化的 4 英寸和 6 英寸 4H-SiC 晶圆。Si 和 C 原子之间很强的化学键[2](Si-C 化学键能为 4.6eV)使得 SiC 材料具有很高的硬度、化学稳定性和高的热导率[3]。同时 SiC 作为第三代宽禁带半导体材料,具有很宽的禁带宽度、高的临界击穿电场和高的饱和漂移速率。此外,SiC 材料可以利用热氧工艺形成氧化层,可以很好的与目前成熟的 Si 工艺兼容。以上的这些优良特性,使得 SiC 成为高功率和高温电力器件和系统应用中最具前景的半导体材料之一[4-6]。(a) (b)图 1-1 (a)Acheson 工艺得到的 SiC 块;(b)商业化 4 英寸和 6 英寸 4H-SiC 晶圆
电子科技大学硕士学位论文SiC 材料存在大约 250 种在各种结构及物理特性上相异的结晶形态,即同[7-8]。比较常见的三种结晶形态为 3C-SiC(C(Cubic)代表立方晶系)、4H-SiC(H(Hexagonal)代表着六方晶系),其结构示意图如图 1-2 所示。、B 和 C 表示在六角紧凑结构中可能的占位,3C-SiC 原子的堆垛次ABCABC…,4H-SiC 的堆垛次序是 ABCB...(或 ABCA…),6H-SiC 的为 ABCACBA…[9]。
参数Si GaAs 3C-SiC 6H-SiC 4H-SiC本征载流子浓度 ni(cm-3)1.5×10101.8×1060.13 1×10-65×10-9禁带宽度 Eg(eV)1.12 1.43 2.36 3.00 3.26相对介电常数 εr11.9 12.5 10 9.7 9.7热导率(W/k·cm)1.5 0.5 4.9 4.9 4.9临界电场 EC(MV/cm)0.3 0.4 1.2 2.4 3.0电子迁移率 μn(cm2V-1s-1)1350 8000 1000 600 1140空穴迁移率 μp(cm2V-1s-1)480 400 40 80 120电子饱和漂移速度(107cm/s)1 2 2 2 2
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本文编号:2835782
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