GaN基光致突触芯片研究
【学位授予单位】:南京邮电大学
【学位级别】:硕士
【学位授予年份】:2019
【分类号】:TN312.8;TN40
【图文】:
邮电大学硕士研究生学位论文 第二章 GaN 基光致突触芯片的设计、仿真与制备,还是有局部光指向有上倾和下倾两种可能,即波矢量k 不是唯一确定的,波矢量在 的分量是1 1 0cosxK n K ,其中有两个值是不确定的。然而波矢量在 z 方向的分量确一确定的1 1 0sinzK n K ,这个量在光线传播过程可以看作成一个不变量,一般称之为常数,用 来表示1 0 1 0 n K sin n Kcos (2.1)因为光在波导中传播要想保证传播质量就必须要满足全反射条件,即2 1sin n n,所 必须满足以下条件2 0 1 0n K n K(2.2
图 2.2 直波导的 Rsoft 仿真结果.3 是对一个激光器器件的 BPM 仿真结果图,以波长为 452nm 的高斯光作为光源波导的传输特性进行了仿真。图 2.3(a)展示的是光在波导中传播的场分布仿真40μm 长的锥形波导将片内发的光从 10μm 宽的 InGaN 波导引至 4μm 宽的传输中可以看出在定向耦合器处产生明显光耦现象。图2.3(b)、(c)、(d)、(e)分别是在Z=、Z=230μm、Z=335μm 时,X-Y 平面场分布图。对比图(b)和图(c)可以看出,相m 的波导,高斯光沿着宽度为 4μm 的波导传播时在底板上沿着水平方向传播的利于定向耦合器的光耦合,同时也可以看出光沿着水平方向传播是逐渐衰减的出当光传播到 Z=230μm 时,通过底板从光输入波导传输到耦合波导,实现了光以清晰的看出在 Z=335μm 时,光完全通过耦合波导在传输。图(f)是耦合距离从 1耦合效率仿真图,可以看出随着耦合距离的增大,耦合效率在不断下降,这和场分布图相吻合。两种仿真结果来看,BPM 和 FullWAVE 两种仿真模式对于简单直波导来说没有
一个耦合波导的传输特性进行了仿真。图 2.3(a)展示的是光在波导中传播的场分布仿真 X-Z平面图,40μm 长的锥形波导将片内发的光从 10μm 宽的 InGaN 波导引至 4μm 宽的传输波导中,从图中可以看出在定向耦合器处产生明显光耦现象。图2.3(b)、(c)、(d)、(e)分别是在Z=1μm、Z=100μm、Z=230μm、Z=335μm 时,X-Y 平面场分布图。对比图(b)和图(c)可以看出,相比宽度为 10μm 的波导,高斯光沿着宽度为 4μm 的波导传播时在底板上沿着水平方向传播的更明显,更有利于定向耦合器的光耦合,同时也可以看出光沿着水平方向传播是逐渐衰减的。图(d)可以看出当光传播到 Z=230μm 时,通过底板从光输入波导传输到耦合波导,实现了光耦合。图 (e)可以清晰的看出在 Z=335μm 时,光完全通过耦合波导在传输。图(f)是耦合距离从 1.5 μm到 4μm 的耦合效率仿真图,可以看出随着耦合距离的增大,耦合效率在不断下降,这和图(c)光传播的场分布图相吻合。结合两种仿真结果来看
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