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高性能驱动关键技术研究

发布时间:2020-10-26 23:54
   Si功率器件经历了晶体管、晶闸管,到MOSFET及IGBT,在阻断电压、开关特性等方面正在接近材料的理论上限。以SiC材料为代表的第三代宽禁带半导体器件是目前在电力电子领域发展最快的功率半导体器件之一,SiC材料具有热导率高、电子饱和迁移速率高和击穿电场高等性质。SiC器件在高温、高压、高频、大功率电子器件领域和航天、军工、核能等极端环境应用领域有着不可替代的优势,弥补了传统功率半导体器件在实际应用中的缺陷,正逐渐成为功率半导体的主流。近几年许多公司推出了商业化的SiC MOSFET,其开关特性和驱动电路成为了研究的热点。本文首先以1700VSiCMOSFET器件为基础,搭建了双脉冲测试平台,利用CREE公司推荐的驱动模块进行了 SiCMOSFET开关特性测试,对其性能进行分析研究,分析了门极驱动电阻和母线电压对开关特性和开关损耗的影响。并且进行了短路测试,验证了退饱和检测方法能够及时的关断SiCMOSFET,保护电路和器件不受损坏。通过实验验证了 SiCMOSFET器件在具体应用中高压、高频和低功耗的特性,为由针对性的器件开发做指导。通过对比Si器件和SiC器件的驱动特性差异,明确了 SiC MOSFET对驱动电路的要求。阐述了驱动电路各部分的设计思路,在此基础上设计了基于SID1182K芯片的驱动电路,包括隔离电源部分、信号隔离部分、保护检测、驱动电路模块等。并且对电路的各部分进行了仿真分析,确定了电路各部分的参数,完成了驱动板PCB设计,对驱动板进行了上电调试。仿真和实验结果表明,驱动电路可以实现各项功能,能够驱动SiCMOSFET模块正常工作,具有较大的实用价值,符合设计的预期。
【学位单位】:北京交通大学
【学位级别】:硕士
【学位年份】:2018
【中图分类】:TN386
【部分图文】:

示意图,内部结构,符号,示意图


SiC功率MOSFET结构与Si功率MOSFET的结构类似,其外延层和衬底材??质均为SiC材料。SiC功率模块一般采用垂直注入MOSFET结构,SiCMOSFET??功率模块是由SiC?MOSFET和SiC肖特基势垒二极管在半桥结构中制造的。图2-1??为SiC?MOSFET等效结构示意图。当栅源级之间的电压为零时,P基区和N-漂移??区之间形成的PN结处于反偏状态,漏源极之间无电流通过,MOSFET处于截止??状态。随着栅源间电压的增大,当FGS大于时,P基区顶部形成反转层,形??成N型导电沟道,将源极区与漏极区连接起来,漏源极之间形成一个完整的N型??导电沟道,MOSFET开始导通。当漏源极电压较小时,器件似乎呈现出一个近似??恒定的电阻状态,这是由通道和漂移区的电阻决定的,最终,电流趋向于饱和。??通过对功率MOSFET的标准分析,可知功率MOSFET的电流饱和有两种可能原因,??

输出特性曲线,输出特性曲线,转移特性,静态特性


?北京交通大学硕士专业学位论文2.2静态特性研究??SiC?MOSFET的静态特性主要是指其转移特性和输出特性,在该SiC?MOSFE数据手册中已经给出了器件的转移特性曲线和输出特性曲线,输出特性曲线如2-2所示,转移特性如图2-3所示:??

高性能驱动关键技术研究


图2-3?SiC?MOSF?
【参考文献】

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本文编号:2857706

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