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PZT压电薄膜体声波谐振器制备研究

发布时间:2020-11-20 03:19
   随着无线通讯技术的高速发展,通讯终端多功能化(如GPS导航、数据传输等)的市场需求日异强烈,以及星载、机载、弹载等电子系统对元器件体积、功耗等因素的严格要求,研制具有高Q值、微型化、集成化特点的高性能频率器件成为无线通讯发展的关键部分。提出一种基于PZT压电效应薄膜体声波谐振器,对高性能频率器件的发展具有重要的意义。论文深入讨论了薄膜体声波谐振器的工作机制,详细地阐述了FBAR器件基本电学等效模型及建模方法,借助ADS电学仿真、Comsol有限元仿真,研究了压电材料厚度及种类,电极材料种类及形状,谐振区域面积等物理结构对FBAR阻抗特性的影响。基于仿真结果优化设计了器件尺寸,最优尺寸下分析谐振中心区域压电层的位移分布,结合PZT压电薄膜应变范围,论证器件结构可行性,结合MEMS加工工艺,确定器件加工技术路线,完成版图设计。采用sol-gel技术完成了PZT压电薄膜晶圆级异质集成,得到了成膜致密、取向性良好、厚度均匀的压电薄膜,最优匹配了FBAR器件的材料属性要求。采用MEMS体硅、平面加工工艺完成了薄膜体声波谐振器基础芯片制备,针对支撑层释放工艺成品率低的技术瓶颈,创新性地提出了TMAH气相刻蚀方法,实现体硅加工的高均匀性、低粗糙度的阵列平面一体化刻蚀,解决了高质量薄膜释放湿法刻蚀技术难题。最后,自主搭建测试平台初步完成原型样机S参数测试实验。实验结果表明,基础芯片串联谐振频率f_s=1.147GHz,并联谐振频率f_p=1.209GHz,带宽为62MHz,器件机电耦合系数k~2_(tff)=12.65%,与仿真结果差距较小,得到了较满意的实验结果。
【学位单位】:中北大学
【学位级别】:硕士
【学位年份】:2018
【中图分类】:TN751.2
【部分图文】:

器件,体声波


图 1.1 FBAR器件相对于传统器件的性能优势膜体声波谐振器的国内外研究动态世纪60年代初期,为了拔高石英晶振的工作频段, 体声波 器件应运而生ewell制成了第一个固体装配型谐振器[8],该器件采用了布拉格反射层结构加工工艺水平的限制,只是个实验室的概念,未能实现商业化应用。压电器的概念是1980年由三个研究小组各自独立提出的[9]。最早提出的背腔刻撑层一般由一层p型掺杂的Si、SiO2或Si3N4充当,压电材料为ZnO,电极t。衬底采用(100)取向的Si,利用Si的各向异性刻蚀将压电振荡堆漏出,为自停止层完成刻蚀。20世纪90年代,声表面波器件(SAW)加工工艺逐渐AW的滤波器和双工器逐渐被广泛应用于无线通信系统,成为主要的频率器BAR性能尚不足以与SAW相比,这种情况在20世纪末未发生改变。美国麻

麻省理工学院,谐振器


微系统实验室采用硅刻蚀技术和键合技术,构造出压电薄膜悬空的密封腔,得到了基模中心频率为1.35GHz、品质因数为540、机电耦合系数为6.4%、插损为3dB的AlN薄膜体声波谐振器(如图1.2),并在集成电路中得到首次应用[12]。(a)器件结构图 (b)器件集成电路图1.2 麻省理工学院AlN谐振器结构及应用图近年来,全球参与FBAR研究的机构众多,企业单位如美国的Motorola公司,德国的 EPCOS公司,芬兰的 Nokia公司,日本的 Fujutsu公司,韩国的 Samsung公司等;学术单位如美国麻省理工学院

气体传感,功能拓展,无线通信,新工艺


该结构明显地提高了谐振器的性能[19]。艺探索方面主要针对谐振频率的精确控制、材料改性、新颖器S工艺集成性的增强、牢固可靠的封装技术等问题。新加坡微电通过引入SiO2和Si3N4保护层(如图1.3),成功地解决了当使用牺牲层时压电层AlN和Mo电极之间的粘附问题,以及刻蚀气问题,进一步提高了FBAR器件与CMOS工艺的兼容性[20];Kim谐振器制备工艺步骤多的问题,创新性提出了使用Mg作为牺牲大简化了工艺过程[21];天津大学的庞慰和张浩教授课题组研究AR传感器,并对体声波的液相响应进行了分析,并通过分子单现了器件的可调谐性,其频率移动高达20 MHz[22];清华大学次在柔性基底上实现了AlN基FBAR器件的制备[23],经过数次弯好的谐振性能(如图1.3),这对柔性无线电子器件的发展具有
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本文编号:2890862

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