PZT压电薄膜体声波谐振器制备研究
【学位单位】:中北大学
【学位级别】:硕士
【学位年份】:2018
【中图分类】:TN751.2
【部分图文】:
图 1.1 FBAR器件相对于传统器件的性能优势膜体声波谐振器的国内外研究动态世纪60年代初期,为了拔高石英晶振的工作频段, 体声波 器件应运而生ewell制成了第一个固体装配型谐振器[8],该器件采用了布拉格反射层结构加工工艺水平的限制,只是个实验室的概念,未能实现商业化应用。压电器的概念是1980年由三个研究小组各自独立提出的[9]。最早提出的背腔刻撑层一般由一层p型掺杂的Si、SiO2或Si3N4充当,压电材料为ZnO,电极t。衬底采用(100)取向的Si,利用Si的各向异性刻蚀将压电振荡堆漏出,为自停止层完成刻蚀。20世纪90年代,声表面波器件(SAW)加工工艺逐渐AW的滤波器和双工器逐渐被广泛应用于无线通信系统,成为主要的频率器BAR性能尚不足以与SAW相比,这种情况在20世纪末未发生改变。美国麻
微系统实验室采用硅刻蚀技术和键合技术,构造出压电薄膜悬空的密封腔,得到了基模中心频率为1.35GHz、品质因数为540、机电耦合系数为6.4%、插损为3dB的AlN薄膜体声波谐振器(如图1.2),并在集成电路中得到首次应用[12]。(a)器件结构图 (b)器件集成电路图1.2 麻省理工学院AlN谐振器结构及应用图近年来,全球参与FBAR研究的机构众多,企业单位如美国的Motorola公司,德国的 EPCOS公司,芬兰的 Nokia公司,日本的 Fujutsu公司,韩国的 Samsung公司等;学术单位如美国麻省理工学院
该结构明显地提高了谐振器的性能[19]。艺探索方面主要针对谐振频率的精确控制、材料改性、新颖器S工艺集成性的增强、牢固可靠的封装技术等问题。新加坡微电通过引入SiO2和Si3N4保护层(如图1.3),成功地解决了当使用牺牲层时压电层AlN和Mo电极之间的粘附问题,以及刻蚀气问题,进一步提高了FBAR器件与CMOS工艺的兼容性[20];Kim谐振器制备工艺步骤多的问题,创新性提出了使用Mg作为牺牲大简化了工艺过程[21];天津大学的庞慰和张浩教授课题组研究AR传感器,并对体声波的液相响应进行了分析,并通过分子单现了器件的可调谐性,其频率移动高达20 MHz[22];清华大学次在柔性基底上实现了AlN基FBAR器件的制备[23],经过数次弯好的谐振性能(如图1.3),这对柔性无线电子器件的发展具有
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本文编号:2890862
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