基于二维层状半导体黑磷的高性能电子器件研究
【学位单位】:华中科技大学
【学位级别】:博士
【学位年份】:2019
【中图分类】:TN386;O613.62
【文章目录】:
摘要
Abstract
1 选题背景与研究意义
1.1 二维材料的发展历程
1.2 黑磷材料的基本性质
1.3 黑磷器件的研究进展
1.4 本论文的主要内容
2 黑磷器件制备与器件物理
2.1 黑磷材料制备技术
2.2 黑磷器件制备流程
2.3 黑磷器件测试方法
2.4 MOSFET器件物理
2.5 本章小结
3 基于高κ栅介质的黑磷器件
3.1 黑磷器件界面优化
3.2 黑磷双极性电路
3.3 黑磷各向异性
3.4 本章小结
4 黑磷射频器件
4.1 黑磷顶栅射频器件
4.2 黑磷嵌入栅射频器件
4.3 黑磷混频器
4.4 本章小结
5 黑磷/砷化铟异质结器件
5.1 带间隧穿器件的基本原理
5.2 黑磷/砷化铟异质结的制备
5.3 黑磷/砷化铟异质结电学特性
5.4 本章小结
6 总结与展望
6.1 本文总结
6.2 下一步的工作和展望
致谢
参考文献
附录 攻读博士学位期间发表论文目录
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本文编号:2893634
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