有机P型半导体材料的制备及表征
发布时间:2020-12-03 17:06
有机场效应晶体管(OFETs)因其低成本、高柔韧性、易于大面积制备等优良特性,受到越来越多的关注。作为电子器件的重要组成部分,其可以应用于传感器、存储器、显示器以及集成电路等方面。并五苯薄膜呈现出类金子塔结构,有效的增大了薄膜的表面积,增加了光的吸收,从而增大了短路电流和光电效率。由于并苯化合物的禁带宽度随着芳环数目的增加而降低,因而有很强的电荷注入能力,表现出很高的载流子迁移率。它拥有有机材料中最高的载流子迁移率,最高可达到2 cm2/Vs,这一数值甚至可以与氢化后的无定型硅相媲美,因此可以作为有机场效应管中的沟道材料。新报道的一种新型的扭曲六苯并蔻(c-HBC),是以并五苯为基本骨架合成的非平面的稠环芳烃。其芳香核心由于其周围的空间拥挤而偏离平面性,非平面型π电子体系有着独特的优点,其凹凸面分子结构对于其他非平面分子具有很好的结构互补性,特别是对于球形富勒烯类的分子。此外,结构互补的分子之间具有很强的分子间π-π相互作用,形成类似球窝接头型分子复合,所得到的聚集态的能量较低,更加稳定。通过X射线晶体学的结构研究显示这些HBC分子堆叠成固态的柱状结构,这非常有利于传导。基于这些优点,...
【文章来源】:上海师范大学上海市
【文章页数】:79 页
【学位级别】:硕士
【部分图文】:
图1.1多苯类化合物??
?6?7??图1.1多苯类化合物??1.2.2氧族稠杂环化合物??氧族杂环化合物主要包括:呋喃、噻吩、硒吩和碲吩。以噻吩环为结构单元??的分子材料己经成为有机半导体研究领域当中的重要部分,其中的BTBT类衍生??物的场效应迁移率达到43?是目前报道的有机半导体材料的最高值I211。??这也使得氧族杂环化合物的研宄成为热点。??与苯环相似,嗤吩环也是研宄较为广泛的芳香环。与苯环相比,噻吩环具有??更大的电子云密度(由于硫原子的存在),更有利于空穴的注入。噻吩作为结构??单元构成的有机半导体材料己经非常多的出现在研究报道中[22]。??如图1.2所示,并五噻吩(8)的薄膜器件场效应迁移率为化0.045?cn^V^S—1??并六噻吩(9)为0.06?cmW,远远低于相应的并苯类材料,但这类材料具有??很好的氧化稳定性,甚至可以表现出阳离子态|23;24]。〇11等[25]报道了化合物10??其薄膜迁移率为〇.5Cm2vdS人进一步扩展其71—共轭体系,得到化合物II,其??单晶迁移率为0.5?cm2V^1|26]。化合物12是化合物10的同分异构体
?第一章绪论??化合物13-15是一系列地含有并三噻吩的化合物,如图1.3。其中,化合物??13其单晶迁移率为1.8?cmVY1271薄膜迁移率为0.5?cmWl[28]。化合物14为??化合物13的同分异构体,Hu等=9]对其进行了系统的研究对比,化合物14的薄??膜器件性能为10x10-5?cn^V^S'单晶器件性能为0.6?cn^V^S'都远远低于化??合物13。化合物〗5的单晶器件迁移率为O.lcn^VdsWM。由此可见,具有并三??噻吩结构的稠环化合物具有较高的迁移率,但并未达到并苯类材料的水平。??化合物16-21是一系列地含有并二唾吩的化合物。其中,化合物16,其薄膜??迁移率为2.9〇1127兮1[31],单晶迁移率达到10(:1112715_|[32];化合物17,其性能??单晶器件性能最高达到16cm2V^S_1[33]。最近,卩3也等[34]报道了化合物18,其薄??膜晶体营迁移率达到19.3?Cm2VdS'是其相似化合物16的6倍,并且具有高的??稳定性。Takimiya组[35]报道了化合物19和20的薄膜器件
本文编号:2896446
【文章来源】:上海师范大学上海市
【文章页数】:79 页
【学位级别】:硕士
【部分图文】:
图1.1多苯类化合物??
?6?7??图1.1多苯类化合物??1.2.2氧族稠杂环化合物??氧族杂环化合物主要包括:呋喃、噻吩、硒吩和碲吩。以噻吩环为结构单元??的分子材料己经成为有机半导体研究领域当中的重要部分,其中的BTBT类衍生??物的场效应迁移率达到43?是目前报道的有机半导体材料的最高值I211。??这也使得氧族杂环化合物的研宄成为热点。??与苯环相似,嗤吩环也是研宄较为广泛的芳香环。与苯环相比,噻吩环具有??更大的电子云密度(由于硫原子的存在),更有利于空穴的注入。噻吩作为结构??单元构成的有机半导体材料己经非常多的出现在研究报道中[22]。??如图1.2所示,并五噻吩(8)的薄膜器件场效应迁移率为化0.045?cn^V^S—1??并六噻吩(9)为0.06?cmW,远远低于相应的并苯类材料,但这类材料具有??很好的氧化稳定性,甚至可以表现出阳离子态|23;24]。〇11等[25]报道了化合物10??其薄膜迁移率为〇.5Cm2vdS人进一步扩展其71—共轭体系,得到化合物II,其??单晶迁移率为0.5?cm2V^1|26]。化合物12是化合物10的同分异构体
?第一章绪论??化合物13-15是一系列地含有并三噻吩的化合物,如图1.3。其中,化合物??13其单晶迁移率为1.8?cmVY1271薄膜迁移率为0.5?cmWl[28]。化合物14为??化合物13的同分异构体,Hu等=9]对其进行了系统的研究对比,化合物14的薄??膜器件性能为10x10-5?cn^V^S'单晶器件性能为0.6?cn^V^S'都远远低于化??合物13。化合物〗5的单晶器件迁移率为O.lcn^VdsWM。由此可见,具有并三??噻吩结构的稠环化合物具有较高的迁移率,但并未达到并苯类材料的水平。??化合物16-21是一系列地含有并二唾吩的化合物。其中,化合物16,其薄膜??迁移率为2.9〇1127兮1[31],单晶迁移率达到10(:1112715_|[32];化合物17,其性能??单晶器件性能最高达到16cm2V^S_1[33]。最近,卩3也等[34]报道了化合物18,其薄??膜晶体营迁移率达到19.3?Cm2VdS'是其相似化合物16的6倍,并且具有高的??稳定性。Takimiya组[35]报道了化合物19和20的薄膜器件
本文编号:2896446
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