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InGaN/GaN基纳米柱LED的制备及光学特性研究

发布时间:2020-12-20 16:44
  GaN及其合金化合物(InGaN、AlGaN等)作为Ⅲ-Ⅴ族化合物半导体材料的代表,由于Ⅲ族氮化物半导体材料属于直接带隙半导体并且拥有变化范围很大的带隙宽度,其带隙变化范围从InN的0.7eV到AlN的6.28eV,对应能量从近红外可覆盖到深紫外,再加上其良好的热稳定性和优良的电热力学性质,在发光、显示、探测、存储等领域得到广泛应用。特别是在光电器件方面,InGaN合金作为一个重要的发光材料,更是起到不可替代的作用。尽管InGaN/GaN多量子阱LED的特性和应用在过去取得了很大的进步与发展,但仍有许多问题有待解决,最重要的问题之一是InGaN/GaN多量子阱LED的发光效率仍然较低。本论文首先采用金属有机化学气相沉积(MOCVD)法在c面蓝宝石衬底之上生长InGaN/GaN多量子阱基LED。然后,使用自上而下的ICP刻蚀技术制备纳米柱LED阵列。利用PL、拉曼、SEM等方法以及Rsoft模拟等手段分析纳米柱结构对InGaN/GaN基LED光电特性和内部物理机制的影响。主要内容如下:(1)研究对比了平板LED(即原位样品)与纳米柱LED阵列(即纳米柱样品)的发光强度和发光效率。通过对比... 

【文章来源】:山东大学山东省 211工程院校 985工程院校 教育部直属院校

【文章页数】:87 页

【学位级别】:硕士

【部分图文】:

InGaN/GaN基纳米柱LED的制备及光学特性研究


图1.1过去四十年可见光LED性能提升曲线,在此期间,LEDs性能以平均每十年增长10??倍的速度发展W

关系曲线,发光效率,关系曲线,波长


LED的发光效率还相对较低,黄光LED的发光效率最低,在黄-绿波段(500-580??nm)发光效率下降很快,存在一个效率“空隙”。这种现象同时存在于GaN基和??AlGalnP基的UED中,均无法获得较高的发光效率。如图1.2_所示,这个“空??隙”问题就是“Green?Gap”问题[21_23]。“Green?Gap”问题使黄、绿光LED的发??展遇到瓶颈,发展落后于蓝光LED,缺少高效的黄、绿光LED也无法实现真正??1000?^'"-inGaN???????■InGaAlP??:?/J-::.??屬???"cold?white'?/'/■■'?.-20%-..??1?Irr:?/?l?I?I?1?I?\?\?\??"?400?450?500?550?600?650?700??wavelength?(nm)?,??图1.2丨nGaN基LED发光效率与波长的变化关系曲线,在黄-绿波段(500-580?nm)发光??效率下降很快P1。??Fig.?1.2?The?efficacy?on?the?wavelength?dependent?of?InGaN-based?quantum?well?structure?LEDs,??which?declined?rapidly?of?the?yellow-green?bands[20】.??,?意义的上白光显示。人眼对绿光敏感度高,提高绿光波段LED发光效率对LED??发展尤为重要。目前的替代品都是利用蓝光LED激发荧光粉获得,在发光效率、??亮度和色彩度上都难以满足需要。??1.4本论文的研究内容与主要安排??目前

过程图,俄歇复合,过程,跃迁


复合和非辐射复合。??2.1.1辑射复合??辐射复合有多种途径,主要包括带带跃迁、激子跃迁、杂质跃迁,如图2.1??所示。??EC^?2?2-??Ei??D?令1?1?m?.??\?^/W\?dd_S_??V::'1?';W\?'.w'..?\?,r??WV\?DA—??A ̄??F???十十?十??图2.1半导体主要复合过程。??Fig.?2.1?Recombination?paths?in?semiconductor.??(1)带带跃迁。导带电子与价带空穴直接复合发光过程为带带跃迁(五c-五小分??为直接跃迁和间接跃迁⑴。??直接跃迁没有声子参与,能量为//V=£g;??11??

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本文编号:2928201

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