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P层结构与工艺对硅基GaN长波长LED性能影响的研究

发布时间:2021-03-26 17:11
  自GaN基LED技术诞生以来,p层优化生长是进一步提升LED光电性能的主要任务之一。其中,作为一种能够有效提升硅基GaNLED光电性能的外延生长技术,量子阱区形成V形坑的技术获得了广泛的研究与关注。在完成量子阱层生长后,通常采用全H2载气和高压下生长的非故意掺杂GaN对形成的V形坑进行合并。V形坑合并层作为V形坑技术的重要组成部分,对硅基GaNLED的光电性能具有重要影响。因此,为了进一步提升硅基GaN长波长LED的光电性能,本文在国家硅基LED工程技术研究中心的平台上,围绕p层结构和工艺展开了较系统的研究工作。重点分析了 V形坑合并层位置、p层生长温度和p-AlGaN电子阻挡层厚度对硅基GaN长波长LED的微观结构和光电性能的影响,所得研究成果如下:1.研究了 V形坑合并层(VCL)位置对硅基GaN绿光LED光电性能和载流子输运的影响。研究结果表明室温下VCL位置对发光效率影响较小,V形坑合并的更早,反向漏电流更小。低温下VCL位置对V形坑附近载流子的注入行为有着较大影响。V形坑合并靠近量子阱层时,V形坑附近的空穴主要从平台处注入,导致电压急剧增加,小电流下外量子效率更高,大电流下外... 

【文章来源】:南昌大学江西省 211工程院校

【文章页数】:73 页

【学位级别】:硕士

【部分图文】:

P层结构与工艺对硅基GaN长波长LED性能影响的研究


图1.1丨II族氮化物禁带宽度与晶格常数VI??1??

效率,硅基


技术相结合是行之有效的解决方案。自1998年IBM公司研发出??第一支硅基GaN?LED以来,在国内外科研工作者的共同努力下,硅基LED技??术路线己经取得了巨大的进步。其中,南昌大学国家硅基LED研宄工程中心是??该技术路线的杰出代表,该工程中心江风益团队历经十数年的艰苦研宄,为实现??硅基GaN?LED产业化提出了一系类完整的解决方案。目前,该工程中心研发的??硅基蓝光LED性能与蓝宝石、SiC衬底相当,绿光LED性能世界一流,黄光??LED性能世界领跑,其中黄光LED效率进展如图1.2所示。??30%??? ̄ ̄??25%?黄光LED效率进展?22?8%?_?°??21.4%??20%?/\1?/??1^%?M0NSAH10?/’?馨??■慨???0?55%?94%?TOSHIBA??5%?j?I??0.0%?0.01%?130/0???UCSB??1965?1971?1990?1994?2008?2010?2016?2017?2018??时间(年)??图1.2黄光LED效率进展图??1.3?GaN基LED的基本特性??1.3.1量子效率??效率是评价任何一个发光器件的重要指标,对LED而言,其效率主要包括??以下几种:内量子效率(IQE),光提取效率(LEE),外量子效率(EQE),注入效??率(丨E),功率转换效率(PCE)等。??4??

变化曲线,正向,量子阱,电流


oop-free?LED??S?40?n?=??^?3〇?-?"'?jx?-??|?Ga0.85ln0.15N/GaN?LED?’?—??c?20?*?-??5?厂?Steep?fall?due?to?non-??—10?-?radiative?recombination?-??C??w.??思?q?,?i?,?i?k?i?,?i????m?0?0.2?0.4?0.6?0.8?1.0??Forward?injection?current?If?(A)??图1.3文献[34]中所得理想GaN基LED和实际GaN基LED外量子阱效率随正向注入??电流变化曲线??图丨.3展示的是理想GaN基LED和实际GaN基LED外量子效率随正向注??入电流变化的曲线。对于理想GaN基LED而言,其光发射功率和注入电流成线??6??

【参考文献】:
期刊论文
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博士论文
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硕士论文
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[3]GaN基紫外LED的光致发光谱分析[D]. 丁娟.西安电子科技大学 2014
[4]LED光源设计及其在生物医学工程中的应用研究[D]. 谭俊廷.河北科技大学 2010



本文编号:3101949

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