基于深紫外激光-光发射电子显微技术的高分辨率磁畴成像

发布时间：2021-03-29 04:05

　　基于磁二色效应的光发射电子显微镜磁成像技术是研究薄膜磁畴结构的一种重要研究手段,具有空间分辨率高、可实时成像以及对表面信息敏感等优点.以全固态深紫外激光（波长为177.3 nm;能量为7.0 eV）为激发光源的光发射电子显微技术相比于传统的光发射电子显微镜磁成像技术（以同步辐射光源或汞灯为激发源）,摆脱了大型同步辐射光源的限制;同时又解决了当前阈激发研究中由于激发光源能量低难以实现光电子直接激发的技术难题,在实验室条件下实现了高分辨磁成像.本文首先对最新搭建的深紫外激光-光发射电子显微镜系统做了简单介绍.然后结合超高真空分子束外延薄膜沉积技术,成功实现了L10-FePt垂直磁各向异性薄膜的磁畴观测,其空间分辨率高达43.2 nm,与利用X射线作为激发源的光发射电子显微镜磁成像技术处于同一量级,为后续开展高分辨磁成像提供了便利.最后,重点介绍了在该磁成像技术方面取得的一些最新研究成果:通过引入Cr的纳米"台阶",成功设计出FePt的（001）与（111）双取向外延薄膜;并在"台阶"区域使用线偏振态深紫外激光观测到了磁线二色衬度,其强度为圆二色衬度的4.6倍.上述研究结果表明:深紫外激光-... 

【文章来源】：物理学报. 2020,69(09)北大核心EISCICSCD

【文章页数】：14 页

【参考文献】：
期刊论文
[1]PEEM/LEEM技术在两维原子晶体表面物理化学研究中的应用[J]. 宁艳晓,傅强,包信和.  物理化学学报. 2016(01)
[2]深紫外激光光发射电子显微镜（PEEM）[J]. 曹凝,傅强,包信和.  中国科学院院刊. 2012(01)
[3]同步辐射X射线磁二色性在自旋电子学研究中的应用[J]. 吴义政.  物理. 2010(06)



本文编号：3106865