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长脉冲激光诱导单晶硅产生等离子体特性

发布时间:2021-04-05 11:39
  针对毫秒脉冲激光诱导单晶硅产生等离子体演化规律,利用光学阴影成像法研究单晶硅燃烧波膨胀过程,分析不同时刻等离子体状态,采用双端口光谱仪分析等离子体光谱,计算等离子体的主要特征参数.结果表明:随着激光能量密度的增加,燃烧波膨胀距离和膨胀速度增大,径向膨胀速度小于轴向膨胀速度;等离子体主要在单晶硅表面附近加速最大;等离子体膨胀时,观察到长脉冲特有的喷溅现象;激光能量密度在337.0~659.7 J/cm2之间时,电子温度量级为104K,等离子体电子温度、电子密度随激光能量密度增加而增加. 

【文章来源】:沈阳工业大学学报. 2020,42(04)北大核心

【文章页数】:4 页

【部分图文】:

长脉冲激光诱导单晶硅产生等离子体特性


单晶硅等离子体测量系统

状态图,羽流,等离子体,状态


利用高速相机记录不同时刻单晶硅燃烧波的膨胀瞬间,如图2所示.图2a、b对应的激光能量密度分别为1 307.1、2 112.6 J/cm2.毫秒脉冲激光烧蚀单晶硅时,等离子体的产生发生在脉冲结束前,燃烧波在激光作用初期产生并开始膨胀.单晶硅燃烧波外边界均随着时间的增加而向外扩散,逆激光入射方向扩散程度最大,形状由近规则的半圆形向分散状态演化.激光密度较大时,观察到喷溅现象,激光能量密度越大,燃烧波边界膨胀距离越大.单晶硅受到毫秒脉冲激光作用后,形成的等离子体脱离单晶硅,产生燃烧波向外膨胀的现象,在燃烧波逆光路的轴向膨胀过程中伴随着径向膨胀.毫秒脉冲激光作用时间较长,等离子体继续吸收后续激光能量,使燃烧波膨胀获得动力源,燃烧波在各个方向的膨胀获得加速.较低能量密度激光作用单晶硅的燃烧波轴向膨胀速度演化如图3所示.单晶硅表面原子的电子在激光作用下受激,硅表面被迅速加热而产生材料喷射,产生由电子、离子、原子组成的等离子体.膨胀速度随时间增加先增加后减小,峰值速度小于5.0 m/s.激光作用初始阶段,等离子体的体积膨胀压强高于空气压强,膨胀速度迅速增加,随着激光作用时间延长,虽然等离子体内粒子数会增多,但膨胀的进行导致粒子的平均自由程变长,粒子间碰撞几率减小,等离子体内能转化为动能减少,所以燃烧波边界速度的变化逐渐变缓.随着激光能量密度的增加,燃烧波膨胀速度增加.

膨胀速度,轴向,单晶硅,激光


较低能量密度激光作用单晶硅的燃烧波轴向膨胀速度演化如图3所示.单晶硅表面原子的电子在激光作用下受激,硅表面被迅速加热而产生材料喷射,产生由电子、离子、原子组成的等离子体.膨胀速度随时间增加先增加后减小,峰值速度小于5.0 m/s.激光作用初始阶段,等离子体的体积膨胀压强高于空气压强,膨胀速度迅速增加,随着激光作用时间延长,虽然等离子体内粒子数会增多,但膨胀的进行导致粒子的平均自由程变长,粒子间碰撞几率减小,等离子体内能转化为动能减少,所以燃烧波边界速度的变化逐渐变缓.随着激光能量密度的增加,燃烧波膨胀速度增加.图4为单脉冲条件下单晶硅等离子体特征光谱.在激光作用初期,由于吸收激光能量,单晶硅表面温度急剧升高,出现汽化现象,在单晶硅表面产生硅蒸汽,硅蒸汽进一步吸收激光后续能量,导致硅蒸汽发生电离,产生的等离子体沿单晶硅表面法线方向快速膨胀,产生激光致燃,即燃烧波的点燃.激光致燃烧波对单晶硅产生极高的冲力和表面热辐射,使单晶硅产生致燃损伤.

【参考文献】:
期刊论文
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本文编号:3119565

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