当前位置:主页 > 科技论文 > 电子信息论文 >

基于光敏印章印刷的微制造方法及其应用研究

发布时间:2017-04-23 21:08

  本文关键词:基于光敏印章印刷的微制造方法及其应用研究,,由笔耕文化传播整理发布。


【摘要】:作为微机电系统(MEMS)技术的核心,微制造技术一直是学术界的研究热点和工业界的研发重点。目前主流的微制造技术主要有如下几种:光刻、化学刻蚀、LIGA、热压印、纳米压印、软刻蚀/微接触印刷和微机加工,每种方法各有其适用领域。进行MEMS相关产品开发时,需要经历反复迭代的过程,时间跨度长,研发人员希望能尽快得到所设计出的具体产品,以便后续的分析测试。但是适合大批量生产的光刻技术成本昂贵,使得反复迭代设计代价过高,而若使用依赖模版复制的微制造技术,又因为原始模版仍依赖光刻技术,模版本身的制造将导致产品迭代速度放缓,因此寻找一种模板制造更为便捷、成本更为低廉的微制造方法具有重要意义。基于此,本文提出了光敏印章印刷的微制造方法,使用日常生活中的光敏印章垫材料来快速制造所需模版,可作为软刻蚀、微浇注等工艺的复制模版。该方法首先利用三维软件设计微结构图案,得到掩模,其次将光敏垫和掩模上一齐放入光敏印章机中进行曝光,曝光后,与掩模图案相反的微结构便会传递至光敏印章。以该方法的工艺研究和实际应用为核心,本文的工作主要围绕以下内容展开:一、可行性验证与原理分析。验证了光敏印章印刷工艺用于微结构快速制造的可行性,并从原理上进行分析解释。首先讨论光敏印章中常用的掩模材料及其分别适用的场合;其次,针对曝光能量和曝光次数两大工艺参数进行单因素试验,对曝光效果的影响进行了研究和优化。二、跨尺度多级微结构的快速嵌套加工。跨尺度多级微结构在微电子器件、表面纹理制造、仿生微结构等领域中有着极其广泛的应用。研究发现通过更换掩模,进行多次复合曝光,可实现跨尺度多级微结构的快速嵌套加工。通过调整曝光用的掩模灰度,可实现不同深度微结构的一次成型,从而用于仿生皮肤纹理制造,并在细胞生物学、分析化学等领域具有广阔的应用前景。三、光敏印章印刷微制造技术在应用层面的拓展。将光敏印章印刷的微制造技术用于微流控纸芯片和柔性电路制造。以图案化的光敏印章为模版,以印刷方式来完成纸芯片制造,并将制得的纸芯片用于亚硝酸根离子浓度分析,操作过程简单快捷;将有亲疏水通道的纸芯片浸润于导电墨水中,待其自然风干后,得到柔性纸基电路,可用于制作柔性微触开关、三维LED灯等。
【关键词】:光敏印章 软刻蚀 纸基微流控芯片 跨尺度微结构 柔性电路
【学位授予单位】:浙江大学
【学位级别】:硕士
【学位授予年份】:2016
【分类号】:D918.92
【目录】:
  • 致谢4-5
  • 摘要5-6
  • Abstract6-13
  • 第1章 绪论13-25
  • 1.1 引言13
  • 1.2 微制造技术概况13-19
  • 1.2.1 光刻13-14
  • 1.2.2 刻蚀14-15
  • 1.2.3 LIGA技术15-16
  • 1.2.4 微细特种加工技术16
  • 1.2.5 纳米压印技术16
  • 1.2.6 软刻蚀徽加工技术16-19
  • 1.3 光敏印章印刷简介19-23
  • 1.3.1 微流控芯片20-21
  • 1.3.2 细胞生物学21-23
  • 1.4 论文主要研究内容和框架23-24
  • 1.4.1 论文主要研究内容23
  • 1.4.2 论文架构23-24
  • 1.5 本章小结24-25
  • 第2章 光敏印章印刷微制造工艺25-35
  • 2.1 光敏印章材料特性25
  • 2.2 基于光敏印章制造微结构原理25-26
  • 2.3 光敏印章印刷常用的掩模材料26-29
  • 2.3.1 硫酸纸26-27
  • 2.3.2 光绘聚酯底片27
  • 2.3.3 金属掩模版27-29
  • 2.4 光敏印章机参数对微结构制备的影响29-34
  • 2.4.1 微结构的制造30-32
  • 2.4.2 曝光次数对微结构制备的影响32-33
  • 2.4.3 曝光能量对微结构制备的影响33-34
  • 2.5 本章小结34-35
  • 第3章 基于光敏印章印刷的多级微结构制造35-53
  • 3.1 多级微结构35-39
  • 3.1.1 多级微结构制备37-39
  • 3.2 不同深度层次微结构的一次性成型39-43
  • 3.2.1 不同深度微结构制备40-42
  • 3.2.2 三维人像制作42-43
  • 3.3 光敏印章作为模版用于浇注43-47
  • 3.3.1 聚合物微流控芯片制造43-46
  • 3.3.2 仿皮肤纹理制造46-47
  • 3.4 分辨率测量47-52
  • 3.5 本章小结52-53
  • 第4章 基于光敏印章印刷的纸基微流控芯片制造53-67
  • 4.1 毛细效应和纸张选择53-54
  • 4.1.1 毛细效应53-54
  • 4.1.2 纸张的选择54
  • 4.2 纸基微流控芯片制备54-60
  • 4.2.1 纸基微流控芯片制作原理54-56
  • 4.2.2 盖章后滤纸表面接触角测定56-57
  • 4.2.3 待分析溶液无动力自流动57
  • 4.2.4 复杂流道图案制备57-58
  • 4.2.5 分辨率测量58-60
  • 4.3 纸芯片用于亚硝酸根离子浓度检测60-61
  • 4.4 常见纸芯片制备技术比较61-65
  • 4.5 成本分析65-66
  • 4.6 本章小结66-67
  • 第5章 基于光敏印章印刷的柔性电路制造67-79
  • 5.1 导电材料的选择67-69
  • 5.1.1 导电油墨67-68
  • 5.1.2 导电墨水68-69
  • 5.2 柔性电路制备69-75
  • 5.2.1 柔性纸电路制作原理69-72
  • 5.2.2 分辨率测量72-73
  • 5.2.3 柔性微触开关73-74
  • 5.2.4 三维立体柔性LED74-75
  • 5.3 常见纸基柔性电路制备技术比较75-77
  • 5.4 成本分析77-78
  • 5.5 本章小结78-79
  • 第6章 总结与展望79-81
  • 6.1 总结79-80
  • 6.2 展望80-81
  • 参考文献81-87
  • 攻读硕士学位期间科研成果87

【相似文献】

中国期刊全文数据库 前10条

1 王锦生,王晓光,黄立彬,张凡;试论光敏印章盖印印文的检验[J];刑事技术;2004年01期

2 丁新生;马鸿;;光敏印章印文薄层色谱分析方法研究[J];甘肃警察职业学院学报;2013年03期

3 尤伟;胡向阳;;光敏印章印迹形成时间的研究[J];中国刑警学院学报;2013年03期

4 陈月萍;;光敏印章印文的鉴别方法研究[J];警察技术;2006年04期

5 林红;王长亮;周光磊;顾会泳;李明;刘萍;陈伟民;薛建国;;同源光敏印章印文鉴别方法的研究[J];中国司法鉴定;2012年06期

6 王进江;黄娜;高永战;;利用光敏印章印文边框印迹检验1例[J];刑事技术;2011年06期

7 张岳;郝疆;;关于光敏印章印文的可变性特征[J];刑事技术;2010年03期

8 贾晓光;宋庆芳;罗顿;;光敏印章盖印印文的检验[J];政法学刊;2007年03期

9 贾治辉;;利用激光、光敏印章机伪造印章印文的鉴定[J];中国司法鉴定;2009年05期

10 陈月萍;;光敏印章印文检验探究[J];中国人民公安大学学报(自然科学版);2006年02期

中国重要报纸全文数据库 前1条

1 晓琳 武键 整理;5要素选好激光雕刻机等设备[N];中国服饰报;2011年

中国硕士学位论文全文数据库 前3条

1 肖箫;基于光敏印章印刷的微制造方法及其应用研究[D];浙江大学;2016年

2 张心源;光敏印章印文鉴定研究[D];华东政法大学;2011年

3 阮舒青;高仿真印章—激光雕刻印章与光敏印章的实验研究[D];华东政法大学;2014年


  本文关键词:基于光敏印章印刷的微制造方法及其应用研究,由笔耕文化传播整理发布。



本文编号:323006

资料下载
论文发表

本文链接:https://www.wllwen.com/kejilunwen/dianzigongchenglunwen/323006.html


Copyright(c)文论论文网All Rights Reserved | 网站地图 |

版权申明:资料由用户c148c***提供,本站仅收录摘要或目录,作者需要删除请E-mail邮箱bigeng88@qq.com