Virtuoso IC61平台下0.13微米混合/射频信号工艺设计套件及配套自动化辅助工具的开发与应用

发布时间：2021-06-18 14:28

　　工艺设计包（PDK）作为当前流行的电路设计工具,越来越受到电路设计工程师的青睐。基于电路设计的实际需求,完成一套适用于Virtuoso IC61平台下的0.13微米混合/射频信号工艺设计套件,并对其中的一些重要器件的参数化单元的开发方法进行了分析,包括MOSFET晶体管、射频电感、电阻。归纳总结了一系列成熟的参数化单元设计方法,包括器件模块设计法、相对图形演算法、子单元复用设计法。提出了一种新的Pcell开发方式,即利用SKILL语言开发输出输入接口程序引入第三方EDA工具,实现Pcell跨平台的工艺仿真参数计算和反馈,并以金属电容的计算自动化展开研究。通过参数化定义金属电容、模块化设计以及利用Cadence SKILL程序编译,成功地实践了这一新的开发方式。这一方法能够支持电路设计者在前端电路设计时就能方便快速得计算金属电容,并能把计算结果实时反馈于电路中,大大地提高了电路设计效率。利用SKILL图形化编程实现对PDK配套自动化辅助工具的开发,包括前端器件模型配置图形界面、后端物理验证DRC/LVS/PEX图形交互界面的开发。同时利用脚本语言编程对PDK进行自动化安装、配置,以满足不... 

【文章来源】：上海交通大学上海市 211工程院校 985工程院校 教育部直属院校

【文章页数】：93 页

【学位级别】：硕士

【部分图文】：

PDK设计应用流程

PDK开发流程

参数化MOS管的版图

【参考文献】：
期刊论文
[1]对射频电感实现PDK参数化和建模的难点处理[J]. 王浩,黄勇,吴林.  中国集成电路. 2010(12)
[2]A design method for process design kit based on an SMIC 65 nm process[J]. 罗海燕,陈岚,尹明会.  半导体学报. 2010(10)
[3]基于Skill语言的版图数据处理程序开发[J]. 李遥,杨伟,温玉.  微电子学. 2009(02)
[4]双极场引晶体管:III .短沟道电化电流理论（双MOS栅纯基）（英文）[J]. 揭斌斌,薩支唐.  半导体学报. 2008(01)
[5]工艺设计工具包PDK的应用及开发[J]. 祝晓波,冯江.  电子设计应用. 2006(02)

硕士论文
[1]集成电路工艺设计包（PDK）验证软件的设计和实现[D]. 朱能勇.中国科学院大学（工程管理与信息技术学院） 2014
[2]0.13um工艺平台下RF PDK套件的开发与自动化设计[D]. 吴林.上海交通大学 2013
[3]PAS平台下PDK套件的开发与分析[D]. 肖杰明.上海交通大学 2008



本文编号：3236827