小型激光直写系统的设计与实现
发布时间：2021-07-25 19:55
光刻技术是目前平面半导体器件加工制造中的重要技术之一。相比于传统掩膜光刻,激光直写技术拥有无需掩膜,加工灵活,对基底表面平整度要求较低的优势。目前,激光直写技术主要应用于集成电路制造,材料表面处理与刻蚀,衍射光学元件加工,微纳原型器件制作等领域。除了提高激光直写空间分辨率与效率、丰富其功能并拓展其应用领域外,小型化也是激光直写技术发展的重要方向之一。现有的商业化大尺度激光直写仪器虽然较为成熟,但价格昂贵,软硬件相对固化,难以根据用户需求进行快速的升级。与之对应的小型桌面式激光直写系统,占地面积小,价格相对低廉,特别适合于微米尺度的电子与光电子单元原型器件的制作,材料的表面处理,以及微流控芯片加工等中小尺度器件的实验室制备。基于此目的,本文研究制作了一套基于笼式系统的小型紫外激光直写系统,系统具有易于组装调试、灵活多用等优势。论文主要包括:首先,论文从光刻技术的研究背景出发,进而简要介绍了激光直写技术的基本原理、优势与发展历程,在此基础上,提出了本文的研究思路与研究目的;其次,讨论了激光直写技术实现的主要基本原理;然后,介绍了我们利用笼式系统开发的小型激光直写系统,包括系统硬件与软件设计...
【文章来源】：电子科技大学四川省 211工程院校 985工程院校 教育部直属院校
【文章页数】：66 页
【学位级别】：硕士
【部分图文】：
各类光刻方式示意图及阿斯麦的TWINSCANNXE:3400B图（
力和工艺宽容度，出现了激光直写机。术的发展历程于上世纪 80 年代提出，特点是单点曝光。目，光学微透镜加工，微机械制造，光学检测，已经开发出各种各样的激光直写专用设备。后各种光波段的激光器相继诞生。1983 年，Knop 在二维直角坐标下利用激光束在光刻胶宽度达到了 20 μm[31]，这是第一篇有关激光自动化和电工研究所 V. P. Koronkevich 等人刻胶的半导体或金属上制作掩膜，然后使用989 年德国海德堡大学的 C. Rensch 等人提出型光刻机，最小线宽可达 1 μm，扫描精度达光直写发展步入高峰期。从研制高精密的设激光直写技术的应用拓展到更多的领域[35-38
激光在 Y 方向进行扫描，用位移平段距离后，光线扫过的区域是具有扫描。激光直写机利用光偏转器实移台走完一段距离后，光线扫过的扫描。 和 M. Takai 等人，利用激光热分解厚度的银线，并发现银线宽度随激光学研究所的 P. Langlois 等人对比了l Elements，DOE）的制作方法：电微细加工。其中激光直写技术制作96%[43]。同年德国爱尔兰根-纽伦堡大于制作了微光学元件，合成了全息150 mm，定位精度为亚微米级[44]。ter，先在基片上生长金属薄膜，利用氧化处理，之后对金属进行刻蚀形
【参考文献】：
期刊论文
[1]MoS2二维晶体的可控制备的研究[J]. 叶黎,黄嘉曜,郑晓武,周伟鹏,徐海涛. 化学工程与装备. 2018(02)
[2]激光超衍射加工机理与研究进展[J]. 张心正,夏峰,许京军. 物理学报. 2017(14)
[3]基于飞秒激光直写的三维高定向碳纳米管组装[J]. 龙婧,熊伟,刘莹,蒋立佳,周云申,李大卫,姜澜,陆永枫. 中国激光. 2017(01)
[4]生物激光打印技术及其应用[J]. 陈燕平,杨如松,柳珑,魏立安,冯莹,向洋. 激光与光电子学进展. 2016(04)
[5]摩尔定律的过去、现在和未来[J]. 戴锦文,缪小勇. 电子与封装. 2015(10)
[6]基于飞秒激光直写光纤光栅的掺镱光纤激光器[J]. 朱学华,潘玉寨. 强激光与粒子束. 2011(04)
[7]印制电路板的发展及前景[J]. 傅莉. 电脑与电信. 2010(05)
[8]纳秒激光刻蚀玻璃基质铬薄膜直写微光栅结构[J]. 张恒,周云,周雷,陈林森. 光子学报. 2009(02)
[9]激光刻蚀法制备Pd纳米颗粒及其光谱特性初探[J]. 丁丽,郭浩,张建奇,张燕珂,贺廷超,莫育俊. 光谱学与光谱分析. 2008(09)
[10]采用DMD并行输入的激光干涉直写方法[J]. 吴智华,周小红,魏国军,邵洁,陈林森. 激光与红外. 2008(05)
博士论文
[1]曲面激光直写系统与关键技术研究[D]. 罗剑波.浙江大学 2012
[2]影响直角坐标激光直写曝光质量的若干关键技术研究[D]. 张山.哈尔滨工业大学 2010
[3]曲面激光直接写入技术[D]. 谢永军.中国科学院研究生院（长春光学精密机械与物理研究所） 2004
[4]激光直写光刻技术研究[D]. 李凤有.中国科学院研究生院（长春光学精密机械与物理研究所） 2002
硕士论文
[1]基于微反射镜的激光直写系统中关键技术的研究[D]. 王国庆.上海交通大学 2012
[2]基于DMD高分辨率激光直写系统设计与实现[D]. 陆亚聪.苏州大学 2007
本文编号：3302670
【文章来源】：电子科技大学四川省 211工程院校 985工程院校 教育部直属院校
【文章页数】：66 页
【学位级别】：硕士
【部分图文】：
各类光刻方式示意图及阿斯麦的TWINSCANNXE:3400B图（
力和工艺宽容度，出现了激光直写机。术的发展历程于上世纪 80 年代提出，特点是单点曝光。目，光学微透镜加工，微机械制造，光学检测，已经开发出各种各样的激光直写专用设备。后各种光波段的激光器相继诞生。1983 年，Knop 在二维直角坐标下利用激光束在光刻胶宽度达到了 20 μm[31]，这是第一篇有关激光自动化和电工研究所 V. P. Koronkevich 等人刻胶的半导体或金属上制作掩膜，然后使用989 年德国海德堡大学的 C. Rensch 等人提出型光刻机，最小线宽可达 1 μm，扫描精度达光直写发展步入高峰期。从研制高精密的设激光直写技术的应用拓展到更多的领域[35-38
激光在 Y 方向进行扫描，用位移平段距离后，光线扫过的区域是具有扫描。激光直写机利用光偏转器实移台走完一段距离后，光线扫过的扫描。 和 M. Takai 等人，利用激光热分解厚度的银线，并发现银线宽度随激光学研究所的 P. Langlois 等人对比了l Elements，DOE）的制作方法：电微细加工。其中激光直写技术制作96%[43]。同年德国爱尔兰根-纽伦堡大于制作了微光学元件，合成了全息150 mm，定位精度为亚微米级[44]。ter，先在基片上生长金属薄膜，利用氧化处理，之后对金属进行刻蚀形
【参考文献】：
期刊论文
[1]MoS2二维晶体的可控制备的研究[J]. 叶黎,黄嘉曜,郑晓武,周伟鹏,徐海涛. 化学工程与装备. 2018(02)
[2]激光超衍射加工机理与研究进展[J]. 张心正,夏峰,许京军. 物理学报. 2017(14)
[3]基于飞秒激光直写的三维高定向碳纳米管组装[J]. 龙婧,熊伟,刘莹,蒋立佳,周云申,李大卫,姜澜,陆永枫. 中国激光. 2017(01)
[4]生物激光打印技术及其应用[J]. 陈燕平,杨如松,柳珑,魏立安,冯莹,向洋. 激光与光电子学进展. 2016(04)
[5]摩尔定律的过去、现在和未来[J]. 戴锦文,缪小勇. 电子与封装. 2015(10)
[6]基于飞秒激光直写光纤光栅的掺镱光纤激光器[J]. 朱学华,潘玉寨. 强激光与粒子束. 2011(04)
[7]印制电路板的发展及前景[J]. 傅莉. 电脑与电信. 2010(05)
[8]纳秒激光刻蚀玻璃基质铬薄膜直写微光栅结构[J]. 张恒,周云,周雷,陈林森. 光子学报. 2009(02)
[9]激光刻蚀法制备Pd纳米颗粒及其光谱特性初探[J]. 丁丽,郭浩,张建奇,张燕珂,贺廷超,莫育俊. 光谱学与光谱分析. 2008(09)
[10]采用DMD并行输入的激光干涉直写方法[J]. 吴智华,周小红,魏国军,邵洁,陈林森. 激光与红外. 2008(05)
博士论文
[1]曲面激光直写系统与关键技术研究[D]. 罗剑波.浙江大学 2012
[2]影响直角坐标激光直写曝光质量的若干关键技术研究[D]. 张山.哈尔滨工业大学 2010
[3]曲面激光直接写入技术[D]. 谢永军.中国科学院研究生院（长春光学精密机械与物理研究所） 2004
[4]激光直写光刻技术研究[D]. 李凤有.中国科学院研究生院（长春光学精密机械与物理研究所） 2002
硕士论文
[1]基于微反射镜的激光直写系统中关键技术的研究[D]. 王国庆.上海交通大学 2012
[2]基于DMD高分辨率激光直写系统设计与实现[D]. 陆亚聪.苏州大学 2007
本文编号：3302670
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