原子层沉积方法制备低温多层Al 2 O 3 /TiO 2 复合封装薄膜的研究

发布时间：2021-08-07 22:36

　　原子层沉积（ALD）方法可以制备出高质量薄膜,被认为是可应用于柔性有机电致发光器件（OLED）最有发展前景的薄膜封装技术之一。本文采用原子层沉积（ALD）技术,在低温（80℃）下,研究了Al₂O₃及TiO₂薄膜的生长规律,通过钙膜水汽透过率（WVTR）、薄膜接触角测试等手段,研究了不同堆叠结构的多层Al₂O₃/TiO₂复合封装薄膜的水汽阻隔特性,其中5nm/5nm×8dyads（重复堆叠次数）的Al2O3/TiO2叠层结构薄膜的WVTR达到2.1×10-5 g/m²/day。采用优化后的Al₂O₃/TiO₂叠层结构薄膜对OLED器件进行封装,实验发现封装后的OLED器件在高温高湿条件下展现了较好的寿命特性。 

【文章来源】：液晶与显示. 2016,31(06)北大核心CSCD

【文章页数】：8 页

【文章目录】：
1 引言
2 实验原理及方案
3 实验结果与分析
    3.1 薄膜生长规律
    3.2 薄膜水汽阻隔性能测试
    3.3 薄膜接触角特性分析
    3.4 OLED器件性能验证
4 结论


【参考文献】：
期刊论文
[1]基于Al2O3封装薄膜的OLED水汽透过率测试方法及系统研究[J]. 段玮,李晟,张浩,张志林,张建华.  发光学报. 2016(01)
[2]低温原子层沉积氧化铝作为有机电致发光器件的封装薄膜[J]. 杨永强,段羽,陈平,赵毅.  发光学报. 2014(09)
[3]有机电致发光器件薄膜封装研究进展[J]. 高淑雅,孔祥朝,张方辉,吕磊.  液晶与显示. 2012(02)
[4]有机发光器件（OLED）封装技术的研究现状分析[J]. 王振国,高健,赵伟明,谭国良.  现代显示. 2011(Z1)



本文编号：3328670