加载功率与壳温对AlGaN/GaN高速电子迁移率晶体管器件热阻的影响
发布时间:2021-09-05 20:54
结温是制约器件性能和可靠性的关键因素,通常利用热阻计算器件的工作结温.然而,器件的热阻并不是固定值,它随器件的施加功率、温度环境等工作条件的改变而变化.针对该问题,本文以CREE公司生产的高速电子迁移率晶体管(HEMT)器件为研究对象,利用红外热像测温法与Sentaurus TCAD模拟法相结合,测量研究了AlGaN/GaN HEMT器件在不同加载功率以及管壳温度下热阻的变化规律.研究发现:当器件壳温由80°C升高至130°C时,其热阻由5.9°C/W变化为6.8°C/W,增大15%,其热阻与结温呈正反馈效应;当器件的加载功率从2.8 W增加至14 W时,其热阻从5.3°C/W变化为6.5°C/W,增大22%.对其热阻变化机理的研究发现:在不同的管壳温度以及不同的加载功率条件下,由于材料导热系数的变化导致其热阻随温度与加载功率的变化而变化.
【文章来源】:物理学报. 2016,65(07)北大核心EISCICSCD
【文章页数】:6 页
【参考文献】:
期刊论文
[1]耗散功率与环境温度对功率VDMOS热阻的影响分析[J]. 董晨曦,王立新. 电子器件. 2013(06)
[2]新型双异质结高电子迁移率晶体管的电流崩塌效应研究[J]. 余晨辉,罗向东,周文政,罗庆洲,刘培生. 物理学报. 2012(20)
[3]AlGaN/GaN高速电子迁移率晶体管器件电流坍塌效应与界面热阻和温度的研究[J]. 顾江,王强,鲁宏. 物理学报. 2011(07)
本文编号:3386070
【文章来源】:物理学报. 2016,65(07)北大核心EISCICSCD
【文章页数】:6 页
【参考文献】:
期刊论文
[1]耗散功率与环境温度对功率VDMOS热阻的影响分析[J]. 董晨曦,王立新. 电子器件. 2013(06)
[2]新型双异质结高电子迁移率晶体管的电流崩塌效应研究[J]. 余晨辉,罗向东,周文政,罗庆洲,刘培生. 物理学报. 2012(20)
[3]AlGaN/GaN高速电子迁移率晶体管器件电流坍塌效应与界面热阻和温度的研究[J]. 顾江,王强,鲁宏. 物理学报. 2011(07)
本文编号:3386070
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