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硅微槽道的纳秒激光与水射流复合加工工艺基础研究

发布时间:2021-09-22 13:03
  随着科学技术的发展,硅作为半导体材料在微电子行业的应用日渐广泛,尤其是硅微结构的需求更是连年增长,同时对硅微结构的加工质量和效率的要求也越来越高。为了实现高质量大深宽比硅微槽道加工,本文提出了纳秒激光与水射流的复合加工方法,充分利用纳秒激光高效的加工特性及水射流冷却、冲刷提高加工质量的特点,进行硅微槽道的高质、高效加工。首先,本文研究了激光与水射流复合加工的光路并在此基础上搭建了光液耦合装置。研究了激光在装置中传播的几何特性,得到了焦距的限制范围以及Z轴方向上的激光焦点与喷嘴上表面自耦合的必要条件。在充分分析稳定水射流特性的基础上设计了多入水口光液耦合装置流道,使用ANSYS的FLUENT模块对耦合装置流道进行了仿真分析,并加工了光液耦合装置进行了试验验证。研究了不同状态的水射流特征,提出了两种直观的稳定水射流的判断依据,并针对此装置改进了耦合调试流程。其次,对硅的纳秒激光与水射流复合加工的材料去除过程进行了研究,通过实际加工形貌验证了硅的去除机制。根据传热学和热弹性力学的相关知识建立了硅的纳秒激光与水射流复合加工的有限元仿真模型并模拟了加工过程,从温度场、应力场、材料的去除规律研究了... 

【文章来源】:哈尔滨工业大学黑龙江省 211工程院校 985工程院校

【文章页数】:73 页

【学位级别】:硕士

【部分图文】:

硅微槽道的纳秒激光与水射流复合加工工艺基础研究


激光与水射流复合加工原理

硅微结构,平面加工,深宽比,加工尺寸


图 1-3 硅微通道[6]工中存在加工尺寸的限制,的 DRIE(Deep Reactive Ion E上进行改进的,在结构的不同比结构。Rahiminejad S 等[7]在成功加工出了 4 层硅微结构scope 扫描电子显微镜)图像中的表面质量不佳的问题,提其可行性。但是平面加工工复杂,加工出的微结构尺寸和破结构尺寸和深宽比的限制,

SEM图像,硅微结构,SEM图像


图 1-3 硅微通道[6]的加工中存在加工尺寸的限制,难以硅的 DRIE(Deep Reactive Ion Etch基础上进行改进的,在结构的不同位宽比结构。Rahiminejad S 等[7]在该,成功加工出了 4 层硅微结构。图croscope 扫描电子显微镜)图像,整构中的表面质量不佳的问题,提出证了其可行性。但是平面加工工艺对较复杂,加工出的微结构尺寸和深突破结构尺寸和深宽比的限制,但是

【参考文献】:
期刊论文
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本文编号:3403804

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