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基于40nm工艺MCU芯片的低功耗物理设计的研究

发布时间:2021-09-28 11:59
  随着集成电路产业的快速发展,电子产品越来越受到欢迎。特别是半导体工艺的不断发展,芯片的工作频率和集成度的不断提高,功耗已经成为集成电路(IC)设计者必须考虑的关键因素,研究高效的低功耗IC设计方法已然变得越来越重要。本文基于40nm工艺,实现了一款MCU芯片的低功耗物理设计,芯片规模(Gates)约600万门,时钟频率为180MHz。本文是基于Synopsys最新布局布线工具IC Compiler Ⅱ(ICC Ⅱ)进行的相关低功耗物理设计的研究,文章首先介绍了集成电路的发展历史和低功耗研究现状,然后介绍了 CMOS功耗的来源及理论,在此基础上,提出了40nm工艺的低功耗设计思想,并介绍了物理设计中常用的几种低功耗技术方法。最后,详细阐述了低功耗设计方法在MCU芯片物理设计中的具体实现,并通过功耗对比分析证明了本文提出的低功耗方法的显著效果。在低功耗布图规划阶段,根据不同的低功耗单元的结构,采取了不同的布局方式和电源引脚的连接方式,特别是电平转换单元,为了使此单元供电充足,本文并没有采取传统的电源轨道供电方式,而是将其电源引脚优先连接到电源条线上,从而更好的发挥其使到达该区域信号的电压摆... 

【文章来源】:天津工业大学天津市

【文章页数】:90 页

【学位级别】:硕士

【部分图文】:

基于40nm工艺MCU芯片的低功耗物理设计的研究


工艺变化引起动态和静态功耗的变化趋势

反相器,功耗


。设计的不同阶段对集成电路的功耗进行一个施进行优化。??艺节点的不断发展,比如现在普遍40nm、28的性能要求越来越高,规模也越来越大,低的越来越重要。??来源及原理??路而言,功耗的主要来源是动态功耗和静功耗组成,而静态功耗又叫泄露功耗121。如NMOS管共同构成的CMOS反相器电路,析CMOS电路功耗的主要来源。CMOS电?^switching?^sltort?leakage?-?^switching?^short?^l

反相器,功耗


是一个反相器,在每一个开关周期,负载电到低的整个转换过程中,消耗一定数量的能量,Energy?I?transition?=?Q???V^D是负载电容,Vro是电源电压。可以把开关=?Energy?/?transition??f?=?CL-V^D-?Ptmns?■?fclock换频率,P_s是时钟发生变化时输出端的转如果进一■步定义:??CeJI=Plrms-CL容,表示每个时钟周期进行开关的平均电容,我们熟悉的形式:??^switching? ̄?'?^DD?'?fcluck,我们可以看出开关功耗的大小与输入信号的

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本文编号:3411856

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