兼容电磁屏蔽红外增透薄膜器件的研究

发布时间：2021-10-12 20:47

　　利用光刻掩模和热蒸发沉积技术制备兼容电磁屏蔽红外窗口薄膜器件,实现3～5μm波段红外信号高效增透,且能屏蔽12～18 GHz频段的电磁波信号.通过光刻掩模和真空热蒸发沉积技术在双面抛光Si基底上制备满足要求的十字交叉对称金属网栅结构,通过离子束辅助电子束热蒸发沉积技术制备3～5μm波段高效增透的红外膜.为进一步改善金属网栅的透射率,在周期g为550μm,不同线宽的金属网栅薄膜上沉积红外增透膜.结果表明:通过真空式傅里叶变换红外光谱仪测试得红外膜样片在3～5μm的峰值透射率为99.8%,平均透射率为99.3%.矢量网络分析仪测试金属网栅12～18 GHz频段的电磁屏蔽效能,得到兼容电磁屏蔽红外窗口薄膜器件在12～18 GHz频段内总体电磁屏蔽效能优于27 dB,3～5μm红外波段的峰值透射率为86.3%,平均透射率为86.1%.金属网栅薄膜上镀制增透膜在保证电磁屏蔽效能不变（≥27 dB）的前提下,网栅光谱（透射率）提高了37.6%（网栅周期g为550μm,线宽2a为30μm）.屏蔽效能的改善既可以通过调整网栅的周期和线宽,也可以选择电阻率较低的基底材料实现. 

【文章来源】：光子学报. 2020,49(10)北大核心EICSCD

【文章页数】：10 页

【文章目录】：
0 引言
1 实验
    1.1 电磁屏蔽薄膜的理论分析
    1.2 金属网栅微结构的制备
    1.3 红外增透膜设计与制备
2 结果与分析
    2.1 金属网栅的光谱及屏蔽效能
    2.2 红外增透膜的光谱特性
    2.3 兼容电磁屏蔽红外窗口薄膜器件的特性
    2.4 其它性能
3 结论


【参考文献】：
期刊论文
[1]薄膜型金属网栅的电磁屏蔽特性[J]. 冯晓国,张舸,汤洋.  光学精密工程. 2015(03)
[2]基于ZnS金属网栅制作工艺的改进[J]. 陈赟,李艳茹,张红胜.  中国光学. 2014(01)
[3]光学透明频率选择表面的设计研究[J]. 张建,高劲松,徐念喜.  物理学报. 2013(14)
[4]透红外/可见光学窗的电磁波屏蔽技术[J]. 陈宇.  红外技术. 2012(07)
[5]高透光率感性网栅膜的电磁屏蔽[J]. 刘小涵,赵晶丽,冯晓国,申振峰,高劲松,张红胜.  光学精密工程. 2012(01)
[6]K9基底细薄铜网上的化学镀镍[J]. 刘小涵,冯晓国,赵晶丽,高劲松.  光学精密工程. 2010(10)
[7]高通光率金属网栅屏蔽效率分析的等效折射率模型[J]. 陆振刚,谭久彬,金鹏,刘俭.  光学精密工程. 2006(06)
[8]硫化锌基底上减反膜的镀制[J]. 苏现军,何家元.  光学仪器. 2001(Z1)



本文编号：3433270