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高光效大功率蓝光InGaN/GaN LED芯片制造及其漏电机理研究

发布时间:2021-12-12 07:28
  大功率发光二极管(Light Emitting Diodes,LEDs)因具有电光转换效率高、节能环保、寿命长、体积小等优点而开始大规模用于照明领域。目前,白光LED主要通过蓝光LED芯片激发黄色荧光粉原理实现。因此,蓝光LED芯片性能的提升,对提高照明效率,节省能源起着至关重要的作用。目前,蓝光LED性能已经得得了很大的提升,蓝宝石衬底大功率蓝光LED芯片的发光效率能够达到140~180 lm/W,但仍然存在光提取效率偏低、大电流下出现电流聚集现象而导致“效率下降”、漏电流过大等亟待解决的关键科学问题。而且大功率LED芯片技术主要被几家国外公司垄断,国内LED芯片制造企业生产的大功率LED芯片质量与国际领先水平仍存在一定的差距。本课题以大功率InGaN/GaN蓝光LED芯片为研究对象,采用理论分析、仿真计算和实验研究的手段,研究LED微纳光学结构和电极结构优化设计对LED芯片光电性能的积极影响,并探析了 LED芯片漏电流形成机理及漏电流大小对LED可靠性的影响。主要研究内容包括如下几个方面:(1)通过分析光子在LED结构中的传输性质,确定了提高LED光提取效率的基本思路。基于几何光学... 

【文章来源】:武汉大学湖北省 211工程院校 985工程院校 教育部直属院校

【文章页数】:136 页

【学位级别】:博士

【部分图文】:

高光效大功率蓝光InGaN/GaN LED芯片制造及其漏电机理研究


图I-1蓝光LED芯片激发黄色荧光粉产生白光原理图

示意图,正向电压,外加电压,原理


光效很低。双异质(Doubleheterostmcture,DH)结构的出现解决了?LED??光效偏低的根本问题,使LED能够真正得到实际应用。双异质结构一般由宽带??隙的p型和n型半导体材料和插入其中的一薄层窄带隙材料组成,如图1-3所??示。宽带隙的p型和n型半导体材料分别作为空穴和电子产生层,而窄带隙材料??则作为载流子限制层。过剩载流子分别从两个方向注入有源层,然后在窄带隙材??料中复合,所以此层材料往往又称为有源层。此时,发光区域由有源区厚度确定,??而不是载流子扩散长度。显然,把有源层变薄是增加辐射复合概率的有效措施。??当有源层的厚度降低到晶体电子的德布罗意波长可比的尺度时,载流子会被量子??限域,这种结构即为量子阱(QuantumWell,QW)结构。为进一步提升光效,现??今多采用多量子阱(Multiple?Quantum?Well,MQW)结构。??r??????????????导带?????光子??n型宽禁带?窄禁带p型宽禁带??”?Ejrp??〇〇〇〇〇L^b〇〇〇〇〇〇〇〇?价带??00000?〇〇〇〇〇〇〇〇〇〇〇??〇〇〇〇〇〇〇〇〇〇〇??图1-3双异质结发光原理示意图??1.2.2?LED发展历史??1907年

示意图,发光原理,双异质结,示意图


。隙的p型和n型半导体材料和插入其中的一薄层窄带隙材料组成,如图示。宽带隙的p型和n型半导体材料分别作为空穴和电子产生层,而窄带则作为载流子限制层。过剩载流子分别从两个方向注入有源层,然后在窄料中复合,所以此层材料往往又称为有源层。此时,发光区域由有源区厚度而不是载流子扩散长度。显然,把有源层变薄是增加辐射复合概率的有当有源层的厚度降低到晶体电子的德布罗意波长可比的尺度时,载流子会限域,这种结构即为量子阱(QuantumWell,QW)结构。为进一步提升光

【参考文献】:
期刊论文
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博士论文
[1]一种新型氮化镓基发光二极管芯片的分析及制备研究[D]. 汪沛.华中科技大学 2011



本文编号:3536258

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