多层复合电沉积磁屏蔽薄膜屏蔽效能

发布时间：2022-01-25 08:02

　　利用电沉积法制备磁屏蔽薄膜,不仅可以精确控制沉积膜的化学成分和厚度,而且可以在复杂几何形状的表面上形成薄膜。通过电沉积装置制备了铁镍-铜-铁镍多层复合磁屏蔽薄膜,并探究了磁场强度、厚度、高温环境对磁屏蔽薄膜屏蔽效能的影响。实验结果表明,50μm和100μm样品的屏蔽效能随磁场强度的增大而增大,200μm的屏蔽效能则是先增大后降低;在4～16 Oe磁场中,厚度越大,薄膜屏蔽效果越好;100℃的温度会降低所有厚度的磁屏蔽薄膜的屏蔽效能。 

【文章来源】：太赫兹科学与电子信息学报. 2020,18(02)北大核心

【文章页数】：5 页

【部分图文】：

样品外观图

电解装置

2.2 多层复合磁屏蔽薄膜结构铜磁导率非常低，对于磁场本身屏蔽效果不明显，但铜也是一种良导体，可以有效屏蔽电场，减少因涡流效应而产生的磁场的影响。因此在磁屏蔽体系中，需要加入一定厚度的铜层。Ni80Fe20磁导率远大于铜铝，在铁镍体系中属于高磁导率合金，因此屏蔽磁场体系中需要以Ni80Fe20为主。当磁场进入屏蔽体系时，外层的Ni80Fe20将大部分磁场通过自身导走，然后铜层将电场导走，减少涡流效应产生的磁场，最里层的Ni80Fe20进一步弱化磁场，从而实现磁场屏蔽。同时铁磁/铜/铁磁多层复合屏蔽体系中，铜层作为抗磁层可调节内部磁场的排布。通过多层结构设计，可以使磁场在薄膜中更好地被导走，强化屏蔽磁场的作用。

【参考文献】：
期刊论文
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本文编号：3608179