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1 550nm超辐射发光管结构设计与制作

发布时间:2022-03-10 13:55
  超辐射发光二极管的发光特性介于发光二极管和激光二极管之间,其独特的性能使得它在光纤陀螺等领域受到广泛青睐。本文研制的1 550nm超辐射发光二极管使用Al0.12Ga0.12In0.76As四元系化合物作为量子阱有源区的发光材料。根据应变补偿理论以及有限深势阱函数本征方程对量子阱阱宽与中心波长的关系进行了计算,最终采用相同组分不同阱宽三量子阱结构。器件采用倾斜条形电流注入区、非出射端利用电化学腐蚀的方法制备非注入吸收区以及出射端腔面蒸镀高增透膜三种方法组合的方式来共同抑制激射。对超辐射发光二极管的光刻显影、脊形台面制作、欧姆接触以及减薄抛光等关键工艺流程进行了实验研究。对制备的器件进行了发光性能的测试:室温条件下,当注入电流为325mA时,由干法刻蚀工艺制备的器件输出功率为25.6 mW,此时中心波长为1 552.13nm,光谱半高宽大于44nm,光谱的调制深度小于5%。 

【文章来源】:长春理工大学吉林省

【文章页数】:57 页

【学位级别】:硕士

【文章目录】:
摘要
ABSTRACT
第一章 绪论
    1.1 引言
    1.2 本论文的主要工作
第二章 文献综述
    2.1 超辐射的定义和发光特性
    2.2 超辐射发光二极管的发展历史
    2.3 超辐射发光二极管的主要应用
    2.4 本章小结
第三章 超辐射发光二极管结构设计和理论分析
    3.1 超辐射发光二极管的有源区设计
    3.2 超辐射发光二极管外延结构
    3.3 超辐射发光二极管整体结构设计
    3.4 本章小结
第四章 超辐射发光二极管的工艺制备
    4.1 外延片工艺技术概述
    4.2 光刻工艺
    4.3 刻蚀工艺
    4.4 欧姆接触工艺
    4.5 减薄抛光工艺
    4.6 超辐射发光二极管芯片制作工艺
    4.7 本章小结
第五章 超辐射发光二极管的测试
    5.1 测试设备及具体步骤
    5.2 测试数据及分析
    5.3 本章小结
总结
致谢
参考文献
硕士期间研究成果


【参考文献】:
期刊论文
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硕士论文
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本文编号:3645767

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