深紫外光刻照明系统的微反射镜阵列公差分析

发布时间：2022-05-08 17:49

　　为满足45 nm及其以下节点光刻技术对照明系统的需求,将深紫外光刻照明系统的光束整形单元所采用的微反射镜阵列（MMA）作为关键器件,以实现满足光源-掩模联合优化（SMO）技术需求的任意照明光源。根据MMA结构参数和加工制造调整特性,分析MMA角度误差类型。在此基础上,利用蒙特卡罗公差分析法模拟实际加工制造调整的过程,通过分析微反射镜角度误差对曝光结果的影响,制定了满足曝光要求的角度公差。结果显示,当MMA在正交方向上的角度调整公差和加工角度公差分别在（±0.04°,±0.06°）、（±0.04°,±0.04°）范围内时,系统曝光得到的特征尺寸误差（CDE）在98.1%的置信概率下小于0.33 nm。 

【文章页数】：7 页

【文章目录】：
1 引 言
2 深紫外光刻照明系统的光束整形单元
3 MMA的角度公差分析
    3.1 MMA角度误差类型
    3.2 光刻照明光源模式的评价函数
    3.3 MMA公差分析方法
4 光刻仿真结果与分析
    4.1 理想角度下的曝光仿真结果
    4.2 角度误差下的曝光仿真结果
5 结 论



本文编号：3652101