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不同缓冲气体中ArF准分子激光系统放电特性分析

发布时间:2022-10-09 15:15
  为深入理解挖掘ArF准分子激光系统运转机制,进而获得ArF准分子激光系统设计优化的理论及方向性指导,文章基于流体模型,以气体高压放电等离子体深紫外激光辐射过程为主要研究对象,研究了放电抽运ArF准分子激光系统的动力学特性,分析了不同缓冲气体中, ArF准分子激光系统极板间电压、电流、光子数密度变化趋势及电子数密度空间分布情况,讨论了光电离在系统放电过程中的重要作用.结果表明, Ne作为缓冲气体时,电子耗尽层及阴极鞘层宽度更小,放电更加稳定.在Ne中添加杂质气体Xe,可以通过光电离加速放电区域的扩展,减小电子耗尽层及阴极鞘层的宽度,降低放电发生的阈值电压,提高放电稳定性. 

【文章页数】:8 页

【参考文献】:
期刊论文
[1]ArF准分子激光系统的能量效率特性[J]. 王倩,赵江山,罗时文,左都罗,周翊.  物理学报. 2016(21)
[2]放电泵浦ArF准分子激光动力学模拟与参数分析[J]. 罗时文,左都罗,王新兵.  强激光与粒子束. 2015(08)
[3]Formation of Large-Volume High-Pressure Plasma in Triode-Configuration Discharge Devices[J]. 江超,王又青.  Plasma Science and Technology. 2006(02)



本文编号:3688871

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