退火时间对FeGaB/Al 2 O 3 多层薄膜性能的影响

发布时间：2022-11-06 14:36

　　现代电子元器件的高速发展,以及磁性元器件小型化、集成化需求日益增长,推动了纳米级磁性功能薄膜材料的研究。以高饱和磁致伸缩系数、低矫顽力的FeGaB薄膜材料为研究基础,以提高薄膜软磁性能为目标,使用脉冲激光沉积系统制备了Fe Ga B/Al₂O₃复合多层薄膜,发现在350℃的生长环境下,未退火的样品成膜质量较好,但软磁性能一般。为了提高磁性能,进行一组不同退火时间下的退火实验,实验发现样品的铁磁共振线宽较大,且退火时间对吸收峰强度影响较大。 

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【文章目录】：
1 引言
2 实验
3 结果与讨论
4 结论



本文编号：3703675