半导体激光器抛光1.2333模具钢工艺参数优化研究

发布时间：2023-05-13 20:23

　　针对模具钢表面抛光耗时长、成本高的工艺难题,采用半导体激光器对1.2333模具钢进行激光抛光试验。采用单因素试验和正交试验相结合的方法,探究激光抛光工艺参数对模具钢表面抛光质量的影响,确定各工艺参数对抛光质量的主次关系及其显著性,通过信噪比法得到优化工艺参数,并通过对比试验进行优化结果稳定性验证。结果表明:工艺参数对表面粗糙度的影响依次为扫描速度>激光功率>离焦量,其中扫描速度是影响抛光质量最显著因素;信噪比法优化工艺参数激光功率为1 kW、离焦量为+3 mm、扫描速度为0.02 m/s,得到良好的表面抛光质量,表面粗糙度为233.04nm,降低率达到92.6%。

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【文章目录】：
1 条件及方法
    1.1 材料
    1.2 装置及检测设备
2 单因素法激光抛光试验
    2.1 试验设计
    2.2 结果与分析
        2.2.1 离焦量对表面粗糙度的影响
        2.2.2 激光功率和扫描速度对表面粗糙度的影响
3 正交法激光抛光试验
    3.1 设计与结果
    3.2 直观分析
    3.3 方差分析
4 信噪比法优化工艺参数
5 结论



本文编号：3816455