高温退火工艺对直流反应磁控溅射制备蓝宝石基氮化铝模板的影响

发布时间：2023-12-02 12:02

　　采用直流反应磁控溅射与高温退火工艺大批量制备了膜厚为200 nm、400 nm及800 nm的2英寸蓝宝石基氮化铝模板,并对高温退火前后不同膜厚模板使用各种表征手段进行对比分析。结果表明:采用磁控溅射制备膜厚为200 nm的模板经高温退火后晶体质量得到显著提升,退火前后整片(0002)面和(10-12)面高分辨率X射线衍射摇摆曲线半高宽分别从632～658 arcsec和2 580～2 734 arcsec下降至70.9～84.5 arcsec和273.6～341.6 arcsec;模板5μm×5μm区域内均方根粗糙度小于1 nm;紫外波段260～280 nm吸收系数为14～20 cm^-1;高温退火前后拉曼图谱E₂(high)声子模特征峰半高宽从13.5 cm^-1降至5.2 cm^-1,峰位从656.6 cm^-1移动至657.6 cm^-1,表明氮化铝模板内的拉应力经高温退火后得到释放,接近无应力状态。

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【文章目录】：
0 引 言
1 实 验
2 结果与讨论
    2.1 高分辨率X射线衍射仪(HRXRD)测试分析
    2.2 原子力显微镜(AFM)测试分析
    2.3 分光光度计测试分析
    2.4 拉曼光谱仪(Raman)测试分析
3 结 论



本文编号：3869628