基于感光栅极GaN高迁移率晶体管的新型探测器制备与优化（英文）

发布时间：2024-05-31 00:15

　　利用GaN高电子迁移率晶体管(HEMT)的栅控特性和锆钛酸铅(PZT)铁电薄膜的光伏效应,在HEMT器件的栅极处沉积一层PZT铁电薄膜,提出了一种新型的(光敏感层/HEMT)探测结构.为制备出光伏性能优异的薄膜,对不同的溅射功率和退火温度制备的PZT铁电薄膜进行表面形貌和铁电性能分析.发现200 W溅射功率、700℃的退火温度制备的薄膜表面晶粒生长明显,剩余极化强度为38.0μC·cm-2.工艺制备GaN基HEMT器件并把PZT薄膜沉积到器件栅极上.在无光和365nm紫外光照射下对有、无铁电薄膜的HEMT探测器的输出特性进行测试.结果显示,在光照时,有铁电薄膜的HEMT器件相较于无光时,源-漏饱和电压最多降低3.55V,饱和电流最多增加5.84mA,表明新型感光栅极HEMT探测器对紫外光具有优异的探测效果.为实现对新型探测器的结构进行优化的目的,对栅长为1μm、2μm和3μm等不同栅长的探测器进行光照测试.结果表明,在紫外光照射下,三种探测器的漏极饱和电流分别为23mA、20mA和17mA,所以栅长越长器件的饱和电流越小,探测性能越差.

【文章页数】：10 页

【文章目录】：
0 Introduction
1 Preparation and analysis of thin films
    1.1 Ferroelectric film preparation
    1.2 Test analysis and discussion
        1.2.1 Surface topography
        1.2.2 XRD phase analysis
        1.2.3 Hysteresis loop analysis
2 Sense grating HEMT device preparation and testing
    2.1 Sense grating GaN HEMT preparation process
    2.2 Test analysis
3 Grid optimization
4 Conclusion



本文编号：3984877