基于DMD光刻制作微柱透镜阵列分模曝光的研究

发布时间：2017-06-13 02:01

  本文关键词：基于DMD光刻制作微柱透镜阵列分模曝光的研究，，由笔耕文化传播整理发布。

【摘要】：针对无掩模光刻技术制作微柱透镜阵列的面形精度问题,对曝光方式和掩模设计进行研究,采用一种分模曝光方法,包括图形分层,掩模设计,分层掩模灰度调制,分层曝光四个步骤。在曝光前,需要对二维掩模版图按设计结构高度进行分层,以实现单层掩模在抗蚀剂上的投影成像高度不超过物镜的焦深范围。基于数字微镜阵列对灰度掩模的空间调制原理,设计出匹配的分层掩模版图,给出了图形分层原则和方法以及模板设计的原理。实验结果表明:采用该方法制作微柱透镜阵列,面形平均误差为0.54μm,相比以往单模曝光平均误差值0.79μm,平均误差减小了0.25μm,该方法弥补了由物镜焦深限制所造成的技术问题,提高了曝光质量。
【作者单位】： 长春理工大学光电工程学院;
【关键词】： 无掩模光刻 数字微镜 灰度掩模 微柱透镜阵列 分模曝光
【分类号】：TN305.7
【正文快照】： *联系人:E-mail:custdong@126.com微柱透镜阵列是指连续面形的微结构,由几微米到几百微米的微小柱透镜按照一定排列组成。由于其体积小、质量轻,便于集成化和阵列化等特点,微柱透镜阵列被广泛应用于光束整形、三维成像与探测[1-3]。目前,制作柱透镜阵列的方法主要有光刻胶热熔

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本文编号：445405