基于NBL电子束曝光系统合轴研究

发布时间：2017-06-13 19:13

  本文关键词：基于NBL电子束曝光系统合轴研究，，由笔耕文化传播整理发布。

【摘要】：详述了电子束曝光系统的原理、种类、系统的构成和合轴的原理,以及如何使NBL(微纳投影)电子束曝光系统更好、更快地进行合轴,从而使NBL电子束曝光机处于最佳工作状态。
【作者单位】： 中国电子科技集团公司第五十五研究所;
【关键词】： 电子束 曝光系统 微纳投影(NBL) 合轴
【分类号】：TN305.7
【正文快照】： 在过去的几年中,半导体技术取得了飞速的发展,已正式进入纳米阶段,因为图形曝光技术、材料刻蚀技术、薄膜生成技术、离子注入技术和粘结互连技术等领域相关的半导体加工技术取得了飞速发展。在这些加工技术中,图形曝光技术是半导体制造技术发展的主要推动者,由于曝光图形的线

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本文编号：447391