高精度深紫外光学透射率测量装置的研制

发布时间：2017-06-20 17:21

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【摘要】：为了精确控制曝光剂量,需要精确测量光刻系统的光学透射率。采用了双光路对比的方法进行透射率测量,有效地消除了准分子激光器能量波动带来的透射率测量误差。并通过加入起偏器,消除了准分子激光器偏振态不稳定带来的误差。搭建了深紫外光学透射率测量装置,对1片可计算透射率的光学样品进行透射率测量,其测量结果与透射率理论计算结果基本一致。测量结果显示,该装置的测量重复性可达到0.3%。通过分光光度计对该光学样品进行测量,通过结果对比,该装置的测量结果与分光光度计的测量结果相差0.28%。另外,该装置应用灵活,可以测量光学系统的透射率,具有不受待测光学样品尺寸影响的优点。
【作者单位】： 中国科学院上海光学精密机械研究所;中国科学院大学;
【关键词】： 物理光学 深紫外 透射率测量 双路对比 重复性 高精度
【分类号】：TN305.7
【正文快照】： 1引言深紫外(UV)光学多应用于激光剥蚀系统,医疗手术等领域,在光刻领域应用尤其广泛。回顾光刻机的发展,为了缩短曝光波长以提高光刻分辨率,曝光光源已从436 nm和365 nm紫外与近紫外汞灯发展到目前的248 nm和193 nm深紫外准分子激光器,再发展到13.5 nm的极紫外光源[1-4]。在目

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