PLD法制备半球面均匀DLC膜的装置、仿真与实验

发布时间：2017-07-05 05:14

  本文关键词：PLD法制备半球面均匀DLC膜的装置、仿真与实验

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【摘要】：由于激光烧蚀靶材形成的等离子体羽辉呈高斯分布,导致沉积的大面积薄膜尤其是球面衬底上的薄膜极不均匀,严重限制了脉冲激光沉积法的应用。设计构建了旋转与变速摆动相结合的三维衬底机构,实现对半球面不同区域的连续沉积,保证了膜层的均匀性;建立膜厚分布的数学模型,模拟分析了运动参数对膜厚分布的影响;首次利用脉冲激光沉积技术制备出口径200 mm大尺寸半球面衬底上的均匀类金刚石膜,顶角80°范围内膜厚不均匀性≤±5%。脉冲激光沉积法在大口径半球面衬底上制备均匀类金刚石膜在空间观测等领域均具有巨大的应用前景。
【作者单位】： 武汉军械士官学校光电技术研究所;
【关键词】： 均匀膜层 脉冲激光沉积 类金刚石膜 大口径半球面衬底
【分类号】：TN249
【正文快照】： 0引言作为新型的功能薄膜制备技术,脉冲激光沉积(Pulsed Laser Deposition,PLD)是一种先进材料的先进制造技术,与传统方法相比,具有诸多优势[1]。但由于脉冲激光烧蚀靶材产生的等离子体羽辉具有很强的方向性,呈高斯分布,极不均匀,难以形成大面积均匀薄膜,球面衬底上镀膜更加困

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本文编号：520627