磁控溅射ZnO薄膜及其微观结构与光电特性

发布时间：2017-07-28 16:33

  本文关键词：磁控溅射ZnO薄膜及其微观结构与光电特性

  更多相关文章： ZnO薄膜 溅射气压 微观结构 透过率 方阻

【摘要】：为了研究氧气与氩气的比例和溅射气压对Zn O薄膜的微观结构及光电特性的影响,在氧化铟锡(ITO)玻璃上采用射频感应耦合离子源增强磁控溅射方法镀上具有一定c轴择优取向的Zn O薄膜,用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、四探针测试仪、紫外可见分光光度计表征薄膜微观结构与光电特性。结果表明随着氧分压的增加,薄膜表面的平整度先增加后减小,沿(002)方向生长的Zn O薄膜结晶度、晶粒尺寸先增加后减小,方阻先减小后增大,晶粒尺寸、方阻等值在O2和Ar的体积流量比为15∶60时达到极值。实验中改变溅射时的气压值,发现较大的溅射气压有利于磁控溅射的进行,有利于获得纯净的Zn O薄膜,在可见光范围内有的样品平均透过率超过90%。
【作者单位】： 华南师范大学物理与电信工程学院;
【关键词】： ZnO薄膜 溅射气压 微观结构 透过率 方阻
【基金】：国家自然科学基金资助项目(61072028) 广东省自然科学基金资助项目(S2013010012548)
【分类号】：TN304.21
【正文快照】： 0引言透明导电薄膜在太阳电池、低波长激光器、光纤通信等许多领域都有广泛的应用[1]。Zn O在自然界中储量丰富,具有较好的化学、机械稳定性,以及优异的光电特性,因此Zn O薄膜成为了透明导电薄膜的研究热点。低电阻率的Zn O薄膜甚至可以取代传统的透明导电ITO薄膜而成为太阳电

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本文编号：585009