光学光刻设备发展和展望

发布时间：2017-07-28 18:07

  本文关键词：光学光刻设备发展和展望

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【摘要】：在半导体技术和制造的发展中,半导体加工技术中最为关键的光刻技术和光刻工艺设备,必将发生显著的变化,本文将对光刻技术和光刻设备的发展历史进行简述,并展望未来光刻技术的趋势。
【作者单位】： 杭州士兰集成电路有限公司;
【关键词】： 光学光刻 设备 发展
【分类号】：TN305.7
【正文快照】： 1光刻机的发展概况多年以来,集成电路技术的发展始终是随着光学光刻技术的不断创新所推进的。在摩尔定律的驱动下,光学光刻技术经历了接触/接近(Mask Aligner)、扫描等倍投影、步进投影、缩小步进投影(Stepper)、步进扫描投影(Scanner)曝光方式的变革,曝光波长由436nm的h线向3

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本文编号：585319