湿化学清洗设备在GaN基LED正装芯片制程中的应用

发布时间：2017-08-05 17:22

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【摘要】：讨论了湿化学清洗设备的产能和耗水(DIW)计算方法,以100 mm晶圆,单批次流片量50片为例,阐述了湿化学清洗设备整机和单元模块的各类配置;依据晶圆在各刻蚀清洗工艺后的表面形状,明确了各清洗设备在工艺中的作用。湿化学清洗设备可依据生产情况灵活处理生产需求,已成为LED芯片制程生产线中应用最多的设备之一。
【作者单位】： 北京中电科电子装备有限公司;
【关键词】： 湿化学制程设备 产能计算 LED芯片制程
【分类号】：TN305.97
【正文快照】： Ga N材料具有宽禁带、发蓝紫光的特性[1,2],已广泛应用于LED芯片制造[3]。随着半导体制造业的发展,自动化、智能化制造生产在不断升级,LED芯片制造已实现大规模自动化生产,既要提高产品良品率,又要保证产能是制造商必须面对解决的重要问题。LED芯片制造中,湿化学清洗设备是用

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本文编号：626049