量子点材料领域专利申请现状分析

发布时间：2017-08-21 01:10

  本文关键词：量子点材料领域专利申请现状分析

  更多相关文章： 量子点结构 专利申请 量子限域效应 量子尺寸效应 量子力学理论 量子干涉 非线性光学效应 量子化 半导体材料 零维

【摘要】：正一、引言量子点材料是一种零维结构的半导体材料,尺寸大小通常为1~100nm。依据量子力学理论,量子点中的载流子在3个维度方向上的能量都是量子化的,表现出的物理行为与原子极为相似,因此又被称为"人工原子"。随着材料维度的降低和结构特征尺寸的减小,量子尺寸效应、量子隧道效应、量子限域效应、量子干涉效应、表面效应、库伦阻塞效应以及多体关联和非线性光学效应都会表现得越来越明显。量子点材料展现出的不同于
【作者单位】： 国家知识产权局专利局专利审查协作北京中心;
【关键词】： 量子点结构;专利申请;量子限域效应;量子尺寸效应;量子力学理论;量子干涉;非线性光学效应;量子化;半导体材料;零维;
【分类号】：TN304;G306
【正文快照】： 一、引言 量子点材料是一种零维结构的半导体材料,尺寸大小通常为1~100nm。依据量子力学理论,量子点中的载流子在3个维度方向上的能量都是量子化的,表现出的物理行为与原子极为相似,因此又被称为“人工原子”。随着材料维度的降低和结构特征尺寸的减小,量子尺寸效应、量子隧

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本文编号：709935