GaN基纳米阵列LED器件制备及发光特性
本文关键词:GaN基纳米阵列LED器件制备及发光特性
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【摘要】:为了降低GaN材料中因应变诱导的量子斯托克斯效应,增加器件有源区内的电子-空穴波函数在实空间的交叠从而提高GaN基LEDs的发光效率,采用紫外软压印技术制备了均匀的周期性纳米柱阵列结构,结合常规LED器件微加工技术获得了In GaN/GaN基蓝光与绿光纳米阵列LED器件并对其进行了表征分析。结果表明:纳米柱阵列LED器件具有均匀的发光和稳定的光电性能。纳米结构不仅有效缓解了量子阱中的应力积累(弛豫度~70%),提高了器件的辐射复合几率和出光效率,同时结合纳米柱侧壁的化学钝化处理进一步降低了器件有源区的缺陷密度,显著降低了LED器件的漏电流(~10-7),最终提高了器件的发光效率。
【作者单位】: 南京大学电子科学与工程学院;
【关键词】: InGaN/GaN 发光二极管 纳米柱 纳米压印
【基金】:国家重点研发计划(2016YFB0400602,2016YFB0400100) 国家高技术研究发展规划(2014AA032605,2015AA033305) 国家自然科学基金(61605071,61674076,61274003,61422401,51461135002,61334009) 江苏省自然科学基金(BY2013077,BK20141320,BE2015111) 固态照明与节能电子学协同创新中心项目 江苏省重点学科资助计划 南京大学扬州光电研究院研发基金资助项目
【分类号】:TN312.8
【正文快照】: 1引言近些年来,随着Ⅲ族氮化物材料的飞速发展,基于Ⅲ族氮化物半导体材料的光电器件越来越受到人们的重视。特别是氮化镓基发光二极管(LEDs),已经在诸多领域得到广泛应用,如固态照明、信号灯和屏幕显示等[1]。常规氮化镓基LED通常在c面蓝宝石衬底上外延In Ga N/Ga N多量子阱结
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,本文编号:747081
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